钕铁硼表面真空蒸镀Al膜的制备及其性能

发布时间：2018-05-27 01:33

  本文选题：烧结钕铁硼 + 永磁材料　； 参考：《材料热处理学报》2017年03期

【摘要】：为了提高烧结NdFeB磁体的耐腐蚀性能,采用真空蒸镀的方法在烧结NdFeB磁体表面沉积Al薄膜,并对工艺过程中的工艺参数进行优化。结果表明:真空室温度对Al薄膜的结构及耐腐蚀性能基本没有影响,但温度过高会导致Al薄膜表面岛状结构的增大,造成Al薄膜的厚度一致性难以控制;随着蒸发源温度的增加,Al薄膜的沉积速率逐渐增加,但是随着蒸镀时间的延长,Al薄膜的沉积效率逐渐降低,这是由于Al蒸发原子在基片上冷凝沉积的物理驱动力下降导致的。采用最佳工艺参数制备的厚度为8μm的Al薄膜,耐中性盐雾试验时间可达60 h,且Al镀层的涂覆对NdFeB磁体的磁性能基本没有影响。
[Abstract]:In order to improve the corrosion resistance of sintered NdFeB magnets, Al films were deposited on the sintered NdFeB magnets by vacuum evaporation, and the process parameters were optimized. The results show that the temperature of vacuum chamber has no effect on the structure and corrosion resistance of Al film, but the high temperature will lead to the increase of the island structure on the surface of Al film, and the consistency of the thickness of Al film will be difficult to control. The deposition rate of Al films increases with the increase of evaporation source temperature, but the deposition efficiency of Al films decreases with the prolongation of evaporation time, which is due to the decrease of the physical driving force of the condensation deposition of Al vaporizing atoms on the substrates. When Al thin films with thickness of 8 渭 m were prepared by the optimum process parameters, the test time of neutral salt spray resistance could be up to 60 h, and the coating of Al coating had little effect on the magnetic properties of NdFeB magnets.
【作者单位】： 合肥工业大学工业与装备技术研究院;合肥工业大学材料科学与工程学院;稀土永磁材料国家重点实验室;
【基金】：国家科技支撑计划项目(2012BAE02B01) 安徽省自然科学基金(1408085MKL72,1408085MKL73)
【分类号】：TB306

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本文编号：1939832