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氮化硼纳米管增韧氮化硅及其机制的研究

发布时间:2020-08-04 17:25
【摘要】:氮化硅(Si_3N_4)作为一种重要的高温结构陶瓷,由于其杰出的性能如高强度和高硬度,良好的抗氧化性,低摩擦系数,可忽略的蠕变,良好的抗热震性,良好的耐腐蚀性等而受到广泛关注。然而,Si_3N_4陶瓷的固有脆性严重限定了其应用。自碳纳米管(CNTs)1991年被发现以来,由于具有特有的物理、化学、电子学和力学性能迅速成为材料、化学和物理等领域的研究热点。许多研究成果证明,CNTs是一种具备无限前景的陶瓷材料增强相。氮化硼纳米管(BNNTs)可以想象成卷起来的六方BN层或B和N原子交替地更迭碳纳米管(CNTs)中C原子。BNNTs具有优异的弹性模量和拉伸强度,同时拥有比CNTs更优异的热稳定性和化学稳定性,因此更有望作为高温陶瓷材料的增强相。本文通过热压烧结制备了氮化硅(Si_3N_4)陶瓷,研究了烧结助剂、烧结温度和BNNTs含量对Si_3N_4陶瓷力学性能的影响。结果表明,以Al_2O_3-Gd_2O_3为烧结助剂,可获得致密度较好、抗弯强度和断裂韧性较高的氮化硅陶瓷。在1800℃之前,陶瓷的抗弯强度随着烧结温度的升高而增加。在1800℃以上,α-Si_3N_4相完全转变为β-Si_3N_4相。通过添加BNNTs,Si_3N_4陶瓷的断裂韧性得到显著提升。当BNNTs含量从0增加到0.8wt.%时,Si_3N_4陶瓷的断裂韧性从7.2增加到10.4MPa.m~(1/2)。然而,过量引入BNNTs会导致Si_3N_4陶瓷断裂韧性的降低。同时,随着BNNTs含量的增加,Si_3N_4陶瓷的相对密度和抗弯强度略有下降,但在1.2wt.%BNNTs时,陶瓷的断裂韧性和抗弯强度仍然分别保持着8.8MPa·m~(1/2)和711MPa的较高水平。另外,BNNTs对Si_3N_4陶瓷的增韧机制也进行了探讨,主要包括纳米管的桥联、拔出和裂纹偏转机制。
【学位授予单位】:海南大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2018
【分类号】:TQ174.1;TB383.1
【图文】:

氮化硅,原子


Y-Si3N4为Fd3m空间群,结构类似于立方氮化硼,是典型的尖晶石结构。Zerr逡逑等运用第一性原理计算得出丫-Si3N4的硬度比a-Si3Nd0p-Si3N4更高(Zerretal.邋1999)。逡逑图1-1丨四面体单元。蓝色圆圈是N原子,灰色圆圈是Si原子。逡逑Fig.邋1-1邋[SiN4]邋tetrahedron邋element.邋Blue邋circle邋is邋N邋atom,邋gray邋circles邋are邋Si逡逑atoms.逡逑(a)邋a-SbN4逦(b)邋p-Si3N4逦(c)邋y-SbN4逡逑图1-2氮化硅的晶体类型。蓝色圆球是N原子,灰色圆球是Si原子。逡逑Fig.邋1-2邋Crystal邋type邋of邋Silicon邋nitride.邋Blue邋spheres邋are邋N邋atoms,邋gray邋spheres邋are邋Si邋atoms.逡逑1.2.2氮化硅的性质逡逑氮化硅不溶于水,溶于氢氟酸,莫氏硬度9?9.5,维氏硬度约为2200,显微硬度逡逑为32630MPa。弹性模量为28 ̄46GPa;比热容为0.71J/(g.K);热导率为(2?155)W/(m.K);逡逑线膨胀系数为邋2.8 ̄3.2xl0-6/°C(2(MOOO°C);比体积电阻,20°C时为邋1.4x105.m,邋500°C逡逑时为邋4xl08.m。逡逑Si3N4没有熔点,大约在1900°C直接升华分解为气态Si和N2,不同温度Si3N4分逡逑解与N2和Si分压的平衡关系如图1-3所示(杨亮亮等.2014),从右下到左上的实线是等逡逑温线

四面体单元,氮化硅


逦(b)邋p-Si3N4逦(c)邋y-SbN4逡逑图1-2氮化硅的晶体类型。蓝色圆球是N原子,灰色圆球是Si原子。逡逑Fig.邋1-2邋Crystal邋type邋of邋Silicon邋nitride.邋Blue邋spheres邋are邋N邋atoms,邋gray邋spheres邋are邋Si邋atoms.逡逑1.2.2氮化硅的性质逡逑氮化硅不溶于水,溶于氢氟酸,莫氏硬度9?9.5,维氏硬度约为2200,显微硬度逡逑为32630MPa。弹性模量为28 ̄46GPa;比热容为0.71J/(g.K);热导率为(2?155)W/(m.K);逡逑线膨胀系数为邋2.8 ̄3.2xl0-6/°C(2(MOOO°C);比体积电阻,20°C时为邋1.4x105.m,邋500°C逡逑时为邋4xl08.m。逡逑Si3N4没有熔点,大约在1900°C直接升华分解为气态Si和N2,不同温度Si3N4分逡逑解与N2和Si分压的平衡关系如图1-3所示(杨亮亮等.2014),从右下到左上的实线是等逡逑温线,从左下到右上的粗实线是Si(l)-SbN4-N2S相共存边界线。由下面反应所决定:逡逑Si3N4(s)=3Si(l)+N2(g)邋AGf邋(1-2)逡逑Si(l)邋=邋Si(v)邋AGV邋(1-3)逡逑2逡逑

示意图,晶须,纤维增韧,示意图


晶须或纤维增韧是通过高强度、高弹性模量的晶须或者纤维材料如SiC、BN、逡逑Si3N4等均匀加入到基体中,构成的稳态增韧有四项基本的贡献,即裂纹偏转、拔出逡逑效应、桥联效应和脱粘。这些贡献可以通过简单的形式表达出来,如图1-4和下式逡逑(Campbell邋etal.邋1990):逡逑^/fd邋xS2/E ̄Ee2r邋+邋4r/邋/R邋0邋-邋/)邋+邋T/d邋^邋/R)逦(1-19)逡逑式中,d是晶须或纤维的脱粘长度,A是晶须或纤维的拔出长度,及是晶须或纤逡逑维的半径,/晶须或纤维是体积分数,*5是晶须或纤维‘强度’,五是晶须或纤维的逡逑弹性模量,&是失配应变,n是界面断裂能量,r是分离界面滑动的阻力。第一项f/E逡逑是在晶须或纤维破裂之前,在基体裂纹两侧的晶须或纤维上储存的应变能(在裂纹的逡逑两边都是V/2E)。这种应变能以声波的形式消散,从而对增韧产生影响。第二项是剥逡逑离长度内每个元件的残余应变能,由失配应变决定。当晶须或纤维失效时,这种应变逡逑能量从系统中消失,从而不依赖于&而损害幵性。第三项是发生脱粘后消耗的的能量,逡逑这个效果是正面的。最后一项是拉出贡献

【参考文献】

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1 杨亮亮;谢志鹏;李双;宋明;;气压烧结氮化硅陶瓷的研究与应用进展[J];陶瓷学报;2014年05期

2 徐鹏;杨建;丘泰;;高导热氮化硅陶瓷制备的研究进展[J];硅酸盐通报;2010年02期

3 黄智勇,刘学建,黄莉萍,张培志,陈晓阳;添加Mg-Al-Si体系烧结助剂的氮化硅陶瓷的无压烧结[J];硅酸盐学报;2004年02期

4 陈力,冯坚,李永清,张长瑞;烧结助剂对自增韧Si_3N_4陶瓷显微结构和性能的影响[J];硅酸盐学报;2003年04期

5 黄勇,代建清,许兴利,谢志鹏,杨金龙;氮化硅粉体的表面化学性质和水中的胶体特性[J];硅酸盐通报;2000年02期

6 张东明,傅正义;放电等离子加压烧结(SPS)技术特点及应用[J];武汉工业大学学报;1999年06期

7 徐耕夫,庄汉锐,李文兰,邬凤英;氮化硅陶瓷的微波烧结[J];硅酸盐通报;1998年04期

8 黄政仁,江东亮;SiC和Si_3N_4纳米陶瓷粉体制备技术[J];硅酸盐学报;1996年05期

9 张承;;氮化硅的α→β相变的探讨[J];江苏陶瓷;1992年03期

10 徐友仁,黄莉萍,符锡仁,严东生;添加稀土氧化物的热压氮化硅陶瓷[J];中国科学(A辑 数学 物理学 天文学 技术科学);1985年04期



本文编号:2780855

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