Cu 50 Zr 50 非晶合金薄膜微观结构及光电性能研究

发布时间：2020-12-06 21:53

　　本论文选用具有稳定玻璃形成能力的Cu₅₀Zr₅₀二元非晶合金作为研究对象,利用磁控溅射法在石英玻璃基底上制备了非晶合金薄膜,通过X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、原子力显微镜（AFM）等分析测试手段表征了Cu₅₀Zr₅₀非晶合金薄膜的微观结构及表面形貌,通过椭圆偏振仪、紫外-可见分光光度计测试了Cu₅₀Zr₅₀非晶合金薄膜的折射率、消光系数、透射率及吸收率等光学性能,通过四探针法测试了Cu₅₀Zr₅₀非晶合金薄膜的载流子迁移率、电阻率及霍尔系数等电学性能,探究了不同磁控溅射时间下Cu₅₀Zr₅₀非晶合金薄膜微观结构及光电性能的变化,并对部分样品在略低于玻璃转变温度附近进行不同温度的退火处理,研究了退火处理对Cu₅₀Zr₅₀非晶合金薄膜的微观结构及光电性能的影响。采用XRD及TEM研究了不... 

【文章来源】：哈尔滨工业大学黑龙江省 211工程院校 985工程院校

【文章页数】：70 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

磁控溅射原理图

哈尔滨工业大学工学硕士学位论文ki[26]等人采用高纯度合金靶材通过磁控溅射的方法在氧化5Cu5非晶合金薄膜，并同样在薄膜表面观察到了尺寸均利用 SEM、AFM、TEM 等分析测试手段研究了薄膜表面特征，发现纳米玻璃由层次化的纳米柱结构和玻璃结合区量较高，尺寸约为 8nm 左右，其生长主要取决于曲率驱结合区 Ti 含量较高，原子密度较小，Ti 元素在界面处的影响。

的力学性能Cu30Al10Ni10大块非晶上沉积 Zr 基非晶合金薄剪切带演化情况，结果发现，沉积了非晶合疲劳极限提高了近 33%，有限元模拟(FEM)成和扩展具有明显的延缓效应，对球形压痕力再分配可以阻止大块非晶合金衬底中局部上溅射沉积了厚度为 200-900nm 的 ZrNi 非晶性能与薄膜厚度之间的联系，结果显示，非为负相关规律，除厚度 400nm 情况外，合金加覆盖层时，在很薄的非晶合金薄膜中也观金薄膜断裂机制主要是由限制塑性区扩展的射技术制备不同成分的 Fe-Nb-B 非晶合金薄薄膜性能之间的关系，结果表明，B 元素是决，图 1-3 为 Fe-Nb-B 非晶合金薄膜随成分变化晶合金相比，Fe-Nb-B 非晶合金薄膜强度降

【参考文献】：
期刊论文
[1]微机电系统(MEMS)技术及发展趋势[J]. 王亚珍,朱文坚.  机械设计与研究. 2004(01)



本文编号：2902087