水辅助CVD法合成碳纳米管阵列以及制备取向碳纳米管阵列/环氧树脂多孔复合膜

发布时间：2021-01-09 01:33

　　碳纳米管作为一维碳纳米材料,具有十分独特的结构与物理化学性质.近年来,人们开始着重研究碳纳米管的内部填充与物质传输的性质,因此,合成高质量,高通透性的碳纳米管具有重要的意义.采用电子束蒸镀催化剂CVD法制备碳纳米管阵列,并且引入了水蒸汽用以刻蚀多余的无定型碳,最终合成了高质量,高通透性的碳纳米管阵列.碳管内径主要分布在8nm到15nm之间,高度可达在100μm以上,最高可达厘米级别,管壁厚度一般在1.2²nm之间.进一步通过环氧树脂包埋结合微切片技术,制备出取向碳纳米管阵列/环氧树脂多孔复合膜,通过一系列的测试证明合成的复合膜中碳纳米管保持了高度取向性,同时具有良好的通透性并且没有宏观裂缝的出现,这保证了复合膜中碳纳米管是唯一的物质传输通道,为进一步研究碳纳米管的内部填充与修饰,以及碳纳米管的内部输运行为奠定了基础. 

【文章来源】：南京大学学报(自然科学). 2016,52(03)北大核心

【文章页数】：8 页

【文章目录】：
1 实验部分
    1.1 水辅助电子束蒸镀催化剂CVD法合成碳纳米管阵列
        1.1.1 催化剂的合成
        1.1.2 碳纳米管阵列的制备过程
    1.2 取向碳纳米管阵列/环氧树脂多孔复合膜的制备
        1.2.1 环氧树脂前驱体的制备
        1.2.2 碳纳米管/高分子多孔复合膜的制备过程
2 结果和讨论
    2.1 水辅助电子束蒸镀催化剂CVD法制备碳纳米管阵列的表征及讨论
    2.2 取向碳纳米管阵列/环氧树脂多孔复合膜的相关测试及讨论
        2.2.1 取向碳纳米管阵列/环氧树脂复合膜的通透性测试
        2.2.2 取向碳纳米管阵列/环氧树脂复合膜的完整性测试



本文编号：2965707