银复合激光刻蚀FTO薄膜的光电性能

发布时间：2021-04-27 17:29

　　在掺氟二氧化锡（FTO）薄膜基底表面用激光刻蚀凹槽后以磁控溅射法复合金属Ag层,然后进行炉内退火处理,制得Ag复合激光刻蚀FTO薄膜。研究了Ag层厚度对样品表面形貌、晶体结构及光电性能的影响。结果表明,当Ag层厚度为5 nm时,大部分银纳米颗粒均匀密集地分布在凹槽内表面而不是凹槽外表面。复合银纳米颗粒及炉内退火有效地提升了FTO薄膜的光电性能。Ag层厚度为5 nm的薄膜在400～800 nm波段的透光率为78.40%,方块电阻为8.21Ω,品质因子达到1.069×10^-2 Ω^-1。 

【文章来源】：电镀与涂饰. 2020,39(12)北大核心CSCD

【文章页数】：5 页

【文章目录】：
1 实验
    1.1 样品的制备
    1.2 形貌与结构的表征
    1.3 光电性能的测试
2 结果与讨论
    2.1 表面形貌
    2.2 晶体结构
    2.3 光学性能
    2.4 电学性能
    2.5 光电性能
3 结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]聚乙二醇对FTO基底上电沉积-热氧化制备的ZnO薄膜光电化学性能的影响[J]. 谢萌阳,肖仕清,郝丽华,马荣伟,牛振江.  电镀与涂饰. 2019(18)
[2]压电雾化喷涂法制备纳米银线透明导电薄膜[J]. 储成智,魏顶,王勇,徐伟,汝长海.  电镀与涂饰. 2017(20)
[3]电化学Fe掺杂增强FTO薄膜的可见光光电化学性能[J]. 肖仕清,郝丽华,谢萌阳,马荣伟,牛振江.  电镀与涂饰. 2017(09)
[4]激光辐照对热退火金属/掺氟二氧化锡透明导电薄膜光电性能的影响[J]. 黄立静,任乃飞,李保家,周明.  物理学报. 2015(03)



本文编号：3163873