电沉积钴-钨合金薄膜的磁性能及其测量方法

发布时间：2021-05-07 09:22

　　采用电沉积技术在纯铜片上制备了钴-钨合金薄膜,并研究了钴-钨合金薄膜的磁性能与其厚度、结构及表面形貌等的关系。结果表明:钴钨电沉积属于诱导共沉积,钨在钴表面氢原子的催化作用下与钴发生共沉积。钴-钨合金薄膜的厚度约为6μm,属于Co₃W四面体结构,其表面由典型瘤状颗粒构成。钴-钨合金薄膜垂直方向的磁性能优于平行方向的磁性能,最大矫顽力为74.42 kA/m。 

【文章来源】：电镀与环保. 2020,40(01)北大核心CSCD

【文章页数】：3 页

【文章目录】：
0 前言
1 实验
    1.1 镀液配方及工艺条件
    1.2 实验方法
    1.3 性能测试
2 结果与讨论
    2.1 钴和钨的循环伏安曲线
    2.2 钴-钨合金薄膜的厚度
    2.3 钴-钨合金薄膜的结构
    2.4 钴-钨合金薄膜的磁性能测试
3 结论


【参考文献】：
期刊论文
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本文编号：3173150