镍铬合金基带抛光电流对Y-Ba-Cu-O高温超导带材性能的影响

发布时间：2021-12-30 13:09

　　对C276镍铬合金基带进行电化学抛光后,采用磁控溅射技术制备中间层或过渡层,然后通过金属有机物化学气相沉积法制备Y-Ba-Cu-O高温超导层。考察了抛光电流对抛光带表面粗糙度、中间层或过渡层面内织构度数和超导层的临界电流的影响。确定了合适的基带抛光电流范围为60～100 A,最佳为90 A。 

【文章来源】：电镀与涂饰. 2020,39(11)北大核心CSCD

【文章页数】：4 页

【部分图文】：

超导带材的大致结构

由图3可知，当抛光电流小于60 A时，中间层面内织构度数(即半高宽，θTC)变动范围较大，在7°～5.5°之间；当抛光电流为60～100 A时，中间层面内织构度数变动范围较小，接近于5.5°。图3 4组平行实验中抛光电流对中间层(过渡层)织构的影响

4组平行实验中抛光电流对中间层(过渡层)织构的影响

【参考文献】：
期刊论文
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博士论文
[1]ZnO薄膜的MOCVD制备及ZnO/Si发光器件研究[D]. 李香萍.吉林大学 2009



本文编号：3558259