脉冲磁场与变质处理对20Mg 2 Si/Al复合材料中初生Mg 2 Si相的影响

发布时间：2023-06-03 02:19

　　对比研究了未处理、脉冲磁场处理及脉冲磁场-变质剂复合处理对20Mg2Si/Al复合材料中初生Mg2Si相形貌和分布的影响,同时研究了复合处理条件下,不同磁场电压和频率对初生Mg2Si相的影响。结果表明,磁场处理和复合处理条件下,Mg2Si相尺寸均有所减小;试样从心部到边部,Mg2Si相体积分数逐渐增加,呈梯度分布,但复合处理后,Mg2Si相的梯度分布效果减弱。当磁场电压在0～300V范围内或磁场频率在1～10Hz范围内,随着磁场电压或频率增加,Mg2Si相的尺寸均先增加后减小,转折点分别为200V和5Hz,其梯度分布效果总体上逐渐减弱。试样耐磨性和硬度的变化规律与Mg2Si相的体积分数基本保持一致。

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【文章目录】：
1 试验材料和方法
    1.1 试验材料与装置
    1.2 试验方法与过程
2 试验结果与分析
    2.1 不同条件下初生Mg2Si相的形貌和分布
    2.2 复合材料的力学性能
3 结论



本文编号：3828471