基于紫外固化胶/PMMA双层胶转印技术的微纳结构制作

发布时间：2024-07-01 21:43

　　本文基于聚二甲基硅氧烷(PDMS)微结构图章的转印技术将紫外固化胶图形转移到PMMA基底上,形成紫外固化胶/PMMA双层胶结构,用等离子刻蚀(RIE)后,得到具有内切结构的光刻胶掩膜,镀金属膜并去胶获得周期性微纳结构。由于界面间粘附能的差异,紫外固化胶图形可以在无粘附剂辅助下成功转移到PMMA基底上。比较PMMA和这种紫外固化胶在氧气等离子中的刻蚀速率,表明紫外固化胶在氧气等离子体中具有高抗刻蚀性,有利于底层的PMMA形成去胶所需的内切结构。

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【部分图文】：

图３．１０微纳米线阵结构的ＳＥＭ图??

３．２．９?基于紫外固化胶／ＰＭＭＡ双层胶转印技术的微纳结构制作的结果??根据前文所介绍的实验过程，并且迪过对在实验中所出现的问题进行改进，??最终得到较为理想的实验结果。如下图３．９，是通过基于紫外固化胶／ＰＭＭＡ双??层胶转印技术得到的微结构的ＳＥＭ图。从图中我们可Ｗ看出ＰＭ....

图３．１１微纳米娃点阵ＳＥＭ圓??

３．２．９?基于紫外固化胶／ＰＭＭＡ双层胶转印技术的微纳结构制作的结果??根据前文所介绍的实验过程，并且迪过对在实验中所出现的问题进行改进，??最终得到较为理想的实验结果。如下图３．９，是通过基于紫外固化胶／ＰＭＭＡ双??层胶转印技术得到的微结构的ＳＥＭ图。从图中我们可Ｗ看出ＰＭ....

本文编号：3999225