W/BDD薄膜电极制备及其电化学性能研究

发布时间：2024-12-07 03:11

　　 利用化学气相沉积(CVD)法研制了一种钨基硼掺杂金刚石(W/BDD)薄膜电极,通过扫描电镜和Raman光谱考察了W/BDD薄膜电极的性能,通过电化学方法测定了其在LiCl-KCl熔盐中的电化学窗口和电化学性能。结果表明,研制的W/BDD薄膜电极的BDD薄膜有较好的微观结构;W/BDD薄膜电极在LiCl-KCl熔盐中的电化学窗口约为3.5 V(-2.5～1.0 V,相对于Ag/AgCl参比极电位);电解过程中,氧离子不与W/BDD薄膜电极表面BDD薄膜层的碳反应,直接被氧化为氧原子;长时间电解不会改变电极表面薄膜层的形貌和结构。

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【文章目录】：
1 实验
    1.1 主要试剂与仪器
    1.2 方法
        1) W/BDD薄膜电极制备
        2) W/BDD 薄膜电极的电化学窗口测试
        3) 氧离子在W/BDD薄膜电极上的氧化过程
        4) 表征分析
2 结果与讨论
    2.1 W/BDD 薄膜电极的表征
    2.2 W/BDD 薄膜电极的电化学窗口测试
    2.3 氧离子在 W/BDD 薄膜电极上的氧化过程
    2.4 W/BDD薄膜电极的稳定性
3 结论



本文编号：4014701