反应磁控溅射制备TiAlVN薄膜及性能研究
发布时间：2017-08-21 18:41
本文关键词：反应磁控溅射制备TiAlVN薄膜及性能研究
【摘要】：利用反应磁控溅射技术,通过调节N2流速在单晶硅(n-110)表面制备了不同N含量的氮化铝钛钒(TiAlVN)薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、纳米压入、X射线光电子能谱(XPS)和Autolab type3型电化学工作站等方法,分别对薄膜断面形貌、力学性能、N元素成分含量及电化学腐蚀性能进行了测试。结果表明,薄膜呈明显的柱状生长方式,且薄膜生长速度随N2流速增加而单调降低;同时,当N2流速为15sccm时,薄膜具有最高的硬度,为15.7GPa。随着N2流速的进一步增加,薄膜的硬度先减小后增大;此外,当N2流速为30sccm时薄膜具有良好的电化学腐蚀性能。
【作者单位】： 兰州理工大学石油化工学院;中国科学院兰州化学物理研究所先进润滑与防护材料研究发展中心;兰州城市学院培黎石油工程学院;
【关键词】： 反应磁控溅射 TiAlVN薄膜 电化学腐蚀
【基金】：国家重点基础研究发展计划(2013CB632304) 国家自然科学基金(51205383;51275508) 甘肃省高等学校科研项目(2013B-070) 兰州市科技局项目(41385)
【分类号】：TB383.2
【正文快照】： TiN薄膜由于其高熔点、高硬度以及良好的导热导电性能,被用于飞机发动机压气机叶片以及化工设备的保护涂层。同时,TiN薄膜也被广泛应用于机械切削工具、装饰等领域,特别适用于硬质合金刀具和耐磨零部件[1-3]。目前,制备TiN薄膜的方法主要有电子束蒸镀、电弧离子镀、等离子体浸
【参考文献】
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本文编号：714507
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