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片状ZnO纳米材料的制备及光学性能

发布时间:2017-10-05 19:45

  本文关键词:片状ZnO纳米材料的制备及光学性能


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【摘要】:ZnO是一种重要的金属氧化物无机半导体材料,其禁带宽度为3.37eV.以硫酸锌和硫氰酸钠为原料,以NaOH为沉淀剂,在超声波作用下采用液相直接沉淀法制备出了片状ZnO纳米粉体,反应在常温下进行.通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、光致发光(PL)、光催化测试对产物的形貌、微结构和光学性能进行了表征.研究表明,制得的ZnO纳米片粉体材料具有缺陷态光致发光特性,并且有非常好的光催化活性.该制备方法简单、易于实现规模化生产.
【作者单位】: 复旦大学材料科学系;
【关键词】液相直接沉淀法 NaSCN ZnO纳米片 光致发光性能 光催化性能
【分类号】:TB383.1
【正文快照】: Zn O是一种直接带隙的宽禁带半导体材料,其室温禁带宽度为3.37 e V,激子结合能为60 me V,对紫外光和部分红外光有很强的吸收能力,对可见光有较高的折射率.纳米级Zn O还具有表面效应、量子尺寸效应等纳米材料的普遍特性.研究表明,纳米Zn O粒子的反应速度是普通Zn O粒子的100~1

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本文编号:978494


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