交替氧化工艺参数对银氧化锡内氧化后组织的影响
发布时间:2017-11-25 13:00
本文关键词:交替氧化工艺参数对银氧化锡内氧化后组织的影响
【摘要】:AgSn合金内氧化后表层往往出现氧化物聚集层,导致成品中出现大量氧化物聚集,严重影响产品质量。针对上述问题,采用氧化-还原-氧化的交替氧化方法,即在通常内氧化工艺过程中增加还原-氧化步骤,先将氧化后丝材表面氧化层还原,然后再次氧化以获得均匀的组织。还原过程起关键作用,考察了不同还原温度(650℃、700℃、750℃)、不同还原时间(0.5h、1h、3h、5h)对银氧化锡内氧化后显微组织的影响,并优选了一种工艺进行后续加工。研究得出:表面还原层厚度随着还原温度的升高、时间的延长逐渐增加;由于晶界上原子排列较晶粒内部疏松,存在较多空位、位错等缺陷,导致晶界成为氢气快速扩散的通道,还原优先在晶界位置发生;后续加工后的丝材无明显氧化物聚集现象。
【作者单位】: 福达合金材料股份有限公司;
【基金】:温州经济技术开发区科技计划项目(KK201427)
【分类号】:TM501.3
【正文快照】: AgSnO2是电接触材料领域应用最为广泛的环保材料之一[1,2]。制备AgSnO2材料的方法有混粉法、粉体预氧化法、内氧化法、化学法等,其中内氧化法是最常用的方法之一,采用该方法制备的AgSnO2材料具有材料组织致密、均匀及抗材料转移性能好等一系列优点,被广泛应用于汽车继电器、家
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3 梁宇青;;电触头材料(Ag—CdO系)[J];电工合金通讯;1973年01期
4 黄大鹏,贾成厂,曲选辉;银基氧化物电触点材料的发展与现状[J];电工材料;2003年04期
5 ;[J];;年期
,本文编号:1226076
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