表面活性剂在多晶硅片制绒中的应用研究

发布时间：2017-12-01 23:08

  本文关键词：表面活性剂在多晶硅片制绒中的应用研究

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【摘要】：多晶硅太阳能电池表面的化学制绒法可极大地提高电池的光电转化效率,而且成本低,适合工业化生产。但是传统的酸性制绒体系反应速度不易控制、所得绒面容易有暗纹、不够均匀且绒面反射率偏高,所以本论文利用扫描电镜(SEM)和紫外可见近红外分光光度仪,研究了NaNO2/HF/H2O、HF/HNO3/H2O和KMnO4/HF/H2O四种制绒体系反应配比、反应时间和是否加入表面活性剂对绒面反射率的影响,探索表面活性剂加入前后绒面反射率的变化规律。在HF/HNO3/H2O体系中,增加制绒体系中HN03的含量,制绒液的氧化能力增强,表面活性剂会被氧化而失去了相应的功能,反应出现过度腐蚀的情况,制得的绒面反射率比原始硅片还要高。降低HN03的含量可获得较好效果,HF/HNO3/H2O比例为1/1/2,表面活性剂10.60 g,冰水浴中制绒反应2 min,反射率20.47%。HF/HNO3体系不加入添加剂会出现过度腐蚀。加入表面活性剂可获得较好的减反射效果,HF/HNO3比例为3/1,表面活性剂D 0.60 g,冰水浴中制绒反应1 min,反射率18.38%。提出了新型KMnO4/HF/H2O和NaNO2/HF/H2O制绒体系,研究表明在这两种新体系中加入表面活性剂后,硅片反射率均有降低。KMnO4/HF/H2O 和 NaNO2/HF/H2O体系获得最优减反射效果的配方如下：KMnO4/HF/H2O/surfactant D=3.60 g/30 mL/210 mL/0.60 g,在室温下发生反应3 min,反射率为19.02%, NaNO2/HF/H2O/surfactant B=0.90 g/150mL/90mL/0.30g,室温反应2.75 min,反射率为19.92%。
【学位授予单位】：大连理工大学
【学位级别】：硕士
【学位授予年份】：2015
【分类号】：TM914.41;TN304.12

【参考文献】

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本文编号：1242764