梯度折射率减反射光伏玻璃的研究

发布时间：2018-01-10 15:26

本文关键词：梯度折射率减反射光伏玻璃的研究　出处：《中国海洋大学》2014年博士论文　论文类型：学位论文

【摘要】：当前，在解决全球能源危机与实现社会可持续发展的双重难题下，清洁、环保、高效的新能源的利用面临机遇与挑战。太阳能作为一种取之不尽的清洁能源受到各国重视。利用太阳能最直接有效的方式是光伏转换，即将太阳能直接转换为电能。在每个太阳电池器件中，光伏玻璃作为一种具有高透光率的玻璃基体对提高光伏电池的光电转换效率具有重要作用。传统的光伏玻璃表面至少会有8%的入射光被反射而无法利用(70度角入射时，反射率增至27%)。因此设计出具有减反射功能的光伏玻璃以避免这部分反射造成的入射能量损失，是很有意义的。目前的减反射技术各有优缺点，磁控溅射法特点是精确可控，但是成本很高，工艺上也限制了镀制多层的宽带减反射膜，虽然从科学研究的角度没有问题，但是产业化生产是不可行的；溶胶-凝胶法的优势是能够相对简单的实现大面积玻璃镀膜，但是其膜层的折射率较为均匀，不能得到宽带减反射的效果。通过对光学减反射理论、方法、玻璃减反射技术的调研分析，研究发现梯度折射率薄膜可以实现宽波段、大角度减反射等优良的特性，而腐蚀法是可以实现这种特性并且可以产业化的光伏玻璃减反射技术。本文采用分层等效的方法，用一个由均质膜构成的多层膜堆等效梯度折射率减反射膜层，构造了多种折射率分布的梯度折射率减反射薄膜，使之能用现有的光学薄膜设计软件对其进行理论计算模拟研究。论文设计了不同的折射率曲线、层数、膜厚等参数，并将计算分为两个阶段：首先针对可见光波段，以110-880nm厚度、三种层数、五种类型折射率分布曲线为参数构建减反射薄膜进行计算，结果表明：在此计算相应参数条件下，200nm以上膜层厚度可以达到宽带减反射的效果；第二阶段，将研究扩展到整个太阳光谱，根据腐蚀法的实验特点和第一部分的结论，重新修订了300nm内的六个厚度、100-300范围内的五种层数、四种减反射曲线等参数。结果表明：在300nm厚度内100层以上层数变化的影响变得很小。在可见光波段和太阳光波段，余弦函数和直线函数分别具有最高的透过率分布，通过进一步计算可见光透射比和太阳光直接透射比这两个评价光伏效能的国标参数，余弦函数结果要好于直线或其它函数。另外，根据德鲁德、洛仑兹-洛伦茨、麦克劳德三种理论对折射率和密度的关系推导，得出了物质密度和折射率的对应关系，据此，提出通过腐蚀法控制玻璃材料表面层的密度使之逐渐变化得到折射率逐渐变化的梯度折射率薄膜，模拟了该梯度减反射薄膜的减反射特性，并与实验结果进行了比较。本文采用新的二次腐蚀梯度折射率薄膜制备方法，分两步对玻璃表层附近材料进行选择性脱除，第一步使用低浓度的酸液脱除表层的钙、钠等金属离子；第二步使用浓度较大的HF等酸液进一步脱除内层的金属离子，并且对光伏玻璃基体表层进行了由外而内的稀疏化处理，得到了一层厚度为200-300nm、具有渐变密度的多孔SiO2微结构层。这种微结构层的折射率呈梯度分布，，并且具有优秀的减反射特性。在紫外到近红外1200nm的波长带宽内，透过率都在96%以上；在350-1084nm的双面总反射率小于1%(即单面反射率0.5%)，其中624-922nm的双面反射率低于0.2%(单面反射率0.1%)；并且390-1000nm波长带宽范围的平均透过率达到了99.22%。本文测试了该光伏玻璃透过率随入射角度的变化，测试结果表明：梯度折射率减反射光伏玻璃在入射角为70°时的透过率达到了95.43%，比未做减反射的光伏玻璃透过率高出了约23%。本文对几种不同折射率梯度轮廓膜层的减反射光谱进行了模拟，并与实验测试结果对比，发现余弦函数分布的折射率与实验结果基本吻合。通过对压花玻璃技术、溶胶-凝胶技术和腐蚀法技术三者的分析得知，压花玻璃与溶胶-凝胶技术的结合会填隙花纹从而削弱减反射效果，而腐蚀法制备技术不破坏压花玻璃表面微结构的减反射效果。本文在压花玻璃表面进行二次腐蚀法减反射的处理，得到了非常理想的减反射效果，在350至1100nm波长范围的透过率几乎达到了100%，是目前所有该类研究中最好的结果。膜层硬度测试表明，光伏玻璃减反射膜层的铅笔硬度达到2H以上，满足减反射光伏玻璃应用的基本要求。
[Abstract]:In every solar cell device , photovoltaic glass is used as a kind of glass matrix with high light transmittance to improve the photoelectric conversion efficiency of the photovoltaic cell . Therefore , it is very important to design photovoltaic glass with antireflection function to avoid the loss of incident energy caused by this reflection . In this paper , a multilayer film stack equivalent gradient refractive index antireflection film composed of a homogeneous film is adopted in this paper , and a plurality of parameters such as refractive index profile , number of layers , film thickness and the like are calculated by using a multilayer film stack equivalent gradient refractive index antireflection film composed of a homogeneous film . In addition , according to the relationship between the refractive index and the density of the three theories of Drude , Lorentz - Lorentz and McLauder , the corresponding relation between the material density and the refractive index is obtained . According to this , the gradient index thin film with the gradual change of the refractive index is obtained by controlling the density of the surface layer of the glass material by the etching method , the antireflection characteristic of the gradient antireflection film is simulated , and compared with the experimental results . In the first step , the metal ions of the inner layer are removed by using a low concentration of acid liquid , and a porous SiO2 microstructure layer with a thickness of 200 - 300 nm and a graded density is obtained . The surface layer of the photovoltaic glass substrate has a gradient distribution and has excellent antireflection characteristic . In this paper , the transmittance of the photovoltaic glass with the incident angle is tested . The results show that the transmittance of the gradient index antireflection photovoltaic glass is 95.43 % when the incident angle is 70 掳 , which is about 23 % higher than that of the non - reflecting photovoltaic glass . In this paper , the reflection spectra of several different refractive index gradient profile films are simulated and compared with the experimental results . Based on the analysis of the technology , sol - gel technique and corrosion method , it is known that the combination of the embossing glass and the sol - gel technology can fill the gap pattern to weaken the reflection effect . The reflection reduction effect is not destroyed by the etching method . The best results are obtained in all these studies . The hardness test of the film layer shows that the pencil hardness of the anti - reflection film layer of the photovoltaic glass reaches more than 2H , which meets the basic requirements of the application of the antireflection photovoltaic glass .

【学位授予单位】：中国海洋大学
【学位级别】：博士
【学位授予年份】：2014
【分类号】：TM914.4

【引证文献】