乙二胺四乙酸二钠体系电刷镀银
发布时间:2020-12-31 22:44
以紫铜为基体,采用以乙二胺四乙酸二钠(EDTA-2Na)为主配位剂的无氰体系镀液,在pH 9.5、温度23~25°C、电压2 V、电流4~5 A和镀笔移动速率8~12 m/min的条件下电刷镀银5 min。研究了辅助配位剂和添加剂对电刷镀银层外观和结合力的影响,得到较优的配方为:硝酸银70~80 g/L,EDTA-2Na 90~100 g/L,5,5-二甲基乙内酰脲70~80 g/L,无水碳酸钾30~40 g/L,乙酸铵15~25 g/L,2,2′-联吡啶0.1~0.3 g/L,焦磷酸钾35~50 g/L,氢氧化钾35~45 g/L,明胶1~2 mL/L。采用该配方电刷镀所得银层细致、光亮,厚度大于20μm,电导率为56.99 MS/m,结合力良好。
【文章来源】:电镀与涂饰. 2020年14期 北大核心
【文章页数】:4 页
【部分图文】:
图1 分别采用配方1(a)、配方2(b)和配方3(c)时所得电刷镀银层的外观
从图2可知,电刷镀所得银层在2θ为38.32°、44.56°、64.72°、77.54°和81.86°处存在特征峰,分别对应Ag的(111)、(200)、(220)、(311)和(222)晶面。2.3 电导率
从图3可以看出,镀银层由细小的球状晶粒组成,晶粒分布均匀,浮于表面的晶粒尺寸稍大,约为1μm,较深处的晶粒尺寸在0.2~0.5μm之间。采用金相显微镜观察镀层截面可知,镀银层内部均匀、致密,与铜基体紧密结合,厚度大于20μm(见图4)。图4 电刷镀银层的截面金相照片
【参考文献】:
期刊论文
[1]无氰镀银新工艺的研究[J]. 刘明星,欧忠文,胡国辉,聂亚林,缪建峰. 电镀与精饰. 2017(03)
[2]丁二酰亚胺体系无氰镀银添加剂的研究[J]. 毕晨,刘定富,曾庆雨. 电镀与涂饰. 2016(03)
[3]高压隔离开关过热缺陷分析及防范措施[J]. 庞先海,甄利,贾志辉,李晓峰. 河北电力技术. 2015(05)
[4]氰化电镀与无氰刷镀下触头镀银层性能比较[J]. 张杰,俞培祥,周海飞,陶礼兵,沈晓明,陈建伟. 腐蚀与防护. 2014(11)
[5]适用于输配电行业的铜件镀银工艺[J]. 茅红裕. 电镀与涂饰. 2011(06)
[6]户外高压隔离开关电触头发热及其在线监测[J]. 王富勇,方瑞明,陈华贵. 宁夏工程技术. 2011(02)
[7]高压隔离开关电触头性能改善探讨[J]. 凌颖,赵莉华,林显,唐婷婷. 高压电器. 2010(08)
[8]高压导电触头电镀工艺与失效分析[J]. 闫斌,邓大勇,何喜梅,张棉绒,王志惠,李生平,王鹏飞. 青海电力. 2008(03)
[9]电网中开关类设备存在金属缺陷的分析[J]. 吴细毛,崔文军,李保福. 东北电力技术. 2007(01)
[10]无氰镀银的工艺与技术现状[J]. 刘仁志. 电镀与精饰. 2006(01)
硕士论文
[1]乙内酰脲复合配位剂体系电镀银工艺及沉积行为的研究[D]. 刘安敏.哈尔滨工业大学 2011
本文编号:2950450
【文章来源】:电镀与涂饰. 2020年14期 北大核心
【文章页数】:4 页
【部分图文】:
图1 分别采用配方1(a)、配方2(b)和配方3(c)时所得电刷镀银层的外观
从图2可知,电刷镀所得银层在2θ为38.32°、44.56°、64.72°、77.54°和81.86°处存在特征峰,分别对应Ag的(111)、(200)、(220)、(311)和(222)晶面。2.3 电导率
从图3可以看出,镀银层由细小的球状晶粒组成,晶粒分布均匀,浮于表面的晶粒尺寸稍大,约为1μm,较深处的晶粒尺寸在0.2~0.5μm之间。采用金相显微镜观察镀层截面可知,镀银层内部均匀、致密,与铜基体紧密结合,厚度大于20μm(见图4)。图4 电刷镀银层的截面金相照片
【参考文献】:
期刊论文
[1]无氰镀银新工艺的研究[J]. 刘明星,欧忠文,胡国辉,聂亚林,缪建峰. 电镀与精饰. 2017(03)
[2]丁二酰亚胺体系无氰镀银添加剂的研究[J]. 毕晨,刘定富,曾庆雨. 电镀与涂饰. 2016(03)
[3]高压隔离开关过热缺陷分析及防范措施[J]. 庞先海,甄利,贾志辉,李晓峰. 河北电力技术. 2015(05)
[4]氰化电镀与无氰刷镀下触头镀银层性能比较[J]. 张杰,俞培祥,周海飞,陶礼兵,沈晓明,陈建伟. 腐蚀与防护. 2014(11)
[5]适用于输配电行业的铜件镀银工艺[J]. 茅红裕. 电镀与涂饰. 2011(06)
[6]户外高压隔离开关电触头发热及其在线监测[J]. 王富勇,方瑞明,陈华贵. 宁夏工程技术. 2011(02)
[7]高压隔离开关电触头性能改善探讨[J]. 凌颖,赵莉华,林显,唐婷婷. 高压电器. 2010(08)
[8]高压导电触头电镀工艺与失效分析[J]. 闫斌,邓大勇,何喜梅,张棉绒,王志惠,李生平,王鹏飞. 青海电力. 2008(03)
[9]电网中开关类设备存在金属缺陷的分析[J]. 吴细毛,崔文军,李保福. 东北电力技术. 2007(01)
[10]无氰镀银的工艺与技术现状[J]. 刘仁志. 电镀与精饰. 2006(01)
硕士论文
[1]乙内酰脲复合配位剂体系电镀银工艺及沉积行为的研究[D]. 刘安敏.哈尔滨工业大学 2011
本文编号:2950450
本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/dianlilw/2950450.html
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