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基于光流场和PIV技术的真空电弧流场运动特性研究

发布时间:2021-06-14 00:04
  随着真空开关向高电压、大容量开断领域渗透,开展真空电弧相关理论及其调控规律的深入研究对促进真空开关的发展意义重大。真空电弧作为流体,其运动具有复杂性和多样性,而电弧流场结构及分布对真空开关综合性能有着重要影响,因此,如何实现电弧流场运动特性研究是真空开关研究领域重要课题之一。基于此,本文以真空开关电弧序列图像复杂流场作为研究对象,提出了基于光流场和PIV技术的真空开关电弧流场运动特性研究方法,为后续丰富电弧调控理论奠定基础。本文通过进行分闸电弧实验,利用CMOS相机对拉弧过程的序列图像进行采集得到了 434帧分闸电弧图像。采集得到的电弧运动序列图像,具有亮度高、电弧形态变化剧烈等特点。在对电弧图像进行预处理后,首先根据光流计算基本原理,选择Hom-Schunck算法进行编程,然后利用MATLAB对相邻两帧电弧图像进行光流计算,得到电弧光流场矢量分布图,进而实现对电弧粒子运动速度的测量。结果表明该方法能够有效获取真空电弧光流场运动特征,实现了电弧粒子运动方向和大小的描述,并显示出电弧在磁场作用下的多个局部涡流区,可用于电弧流场特性的诊断,可行性高。为了获得更精确的真空电弧流场信息,本文将... 

【文章来源】:大连交通大学辽宁省

【文章页数】:66 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

基于光流场和PIV技术的真空电弧流场运动特性研究


图1.1真空开关基本结构示意图??Fig.?1.1?Basic?structure?diagram?of?VCB??

示意图,真空灭弧室,基本结构,真空开关


1.2真空开关基本结构??传统的真空开关主要由五部分组成,分别是真空灭弧室、绝缘支撑、传动机构、基??座和操动机构[18],如图1.1所示,其中,真空开关的综合性能主要由真空灭弧室决定;??绝缘支撑起到对真空开关整体的支撑和绝缘保护作用;操动机构和真空灭弧室由传动机??构连接,该结构可将操动机构的运动有效地传递给真空灭弧室的动触头,使触头完成分??闸时的开、合运动:基座对真空开关整体起到支撑和保护的作用。通常所说的操动系统??是指传动机构与操动机构统称的统称,并且真空开关的使用性能主要由操动系统的可靠??性决定。经统计,将近50%的真空开关运行事故是由操动系统故障引起,因此,高可靠??性的操动系统是真空开关成功开关从而保护电路的重要因素之一[19]。??I?||?1??Iz,1??丨,2??IS—hrl??31^11??51?rp?/??1)真空灭弧室:2)绝缘支撑:3)传动机构:4)基座;5)操动机构??图1.1真空开关基本结构示意图??Fig.?1.1?Basic?structure?diagram?of?VCB??真空开关的核心部件是真空灭弧室,主要由触头、屏蔽罩、导电杆、波纹管、端盖??和绝缘外壳组成,如图1.2所示。真空灭弧室是一个高度密封的真空容器。为保证真空??灭弧室的工作环境恒定高度真空

主回路


按需调节参数等特点。本文所设计的分闸电弧实验需要50kA的工频大电流,因此采用??大连理工大学电力电子研宄所的设备进行实验。??触头分闸电弧实验主回路如图2.1所示,电容C和电感L组成的LC振荡电路作为??电源;S1为交流电源控制开关,S2为充电电路控制开关;D1和D2是充电电路中的整??流二极管;T是变压器;R是限流电阻;CB是控制电容放点的开关,为灭弧室提供负??载电流。??.'?丁?,??S1?)?(?S2?C3??|?I ̄?'?I?236?如F?丁巳??1?1?m??R?C??I——??,^?,?2?36.?4m?F???????k,????n■丫???1?丄?L??D1?—??图2.1拉弧实验主回路??Fig.?2.1?Main?circuit?of?arc?experiment??8??

【参考文献】:
期刊论文
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博士论文
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[2]基于光控模块的多断口真空开关研究[D]. 廖敏夫.大连理工大学 2004

硕士论文
[1]基于MATLAB的数字图像处理系统研究[D]. 梁原.长春理工大学 2008
[2]基于多尺度的光流算法在PIV中的应用[D]. 孙立志.大连理工大学 2006
[3]PIV测试中示踪粒子性能的研究[D]. 赵宇.大连理工大学 2004



本文编号:3228627

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