电子束光刻胶成膜树脂研究进展

发布时间：2017-10-13 21:48

  本文关键词：电子束光刻胶成膜树脂研究进展

  更多相关文章： 电子束 光刻胶 成膜树脂 研究进展

【摘要】：电子束光刻作为下一代光刻技术(Next Generation Lithography,NGL),以其分辨率高和性能稳定被认为是在22nm节点最具有发展前景的光刻技术之一。本文归纳了电子束光刻胶用成膜树脂,主要分为聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、树枝状聚合物、分子玻璃、有机硅及碳材料等应用于电子束光刻的成膜树脂类型,综述了其研究进展,最后对电子束光刻胶未来的发展前景和方向进行了展望。
【作者单位】： 江南大学化学与材料工程学院;苏州瑞红电子化学品有限公司;
【关键词】： 电子束 光刻胶 成膜树脂 研究进展
【基金】：江苏省产学研前瞻性联合研究项目(No.BY2015019-14) 国家重大科技专项(No.2010ZX02304) 江苏省普通高校学术学位研究生科研创新计划(No.KYLX_1127)的资助
【分类号】：TN305.7;TQ325.7
【正文快照】： 1引言微电子产业的飞速发展要求半导体器件的特征尺寸越来越小,器件特征尺寸的减小一方面依赖于曝光工具,另一方面也与光刻胶的选择密切相关。目前集成电路的最小特征尺寸已从微米级、亚微米级进入纳米水平,曝光光源也经历了从早期的近紫外G线(436n m)和I线(365n m),到深紫外(

【相似文献】

中国期刊全文数据库 前1条

1 ;产品开发[J];广州化工;2006年01期

，

本文编号：1027271