光刻胶材料中国区域专利现状分析

发布时间：2017-10-28 17:20

  本文关键词：光刻胶材料中国区域专利现状分析

  更多相关文章： 光刻胶材料 中国区域 专利分析

【摘要】：近年来,我国光刻胶材料的市场规模大幅增长。本文对光刻胶材料中国区域的专利申请的现状进行了分析,梳理了专利申请总体趋势、地域分布、申请人构成、主要申请人、专利申请的法律状态等情况,以期为我国光刻胶材料企业的发展提供一定的参考。
【作者单位】： 国家知识产权局专利局光电部;知识产权出版社咨询培训中心;
【关键词】： 光刻胶材料 中国区域 专利分析
【分类号】：TN305.7;G306
【正文快照】： 一、引言作为微电子技术核心的集成电路制造技术是电子工业最重要的基础,其发展之快、更新之速,是其他任何产业都无可比拟的[1]。而在集成电路微细加工过程中,光刻工艺又是集成电路制造的关键工艺步骤,其中关键的材料——光刻胶(photoresist)又称光致抗蚀剂,是一种感光性高分

【相似文献】

中国期刊全文数据库 前10条

1 ;180nm及更深技术中去除过度注入光刻胶的干剥离工艺(英文)[J];半导体技术;2003年05期

2 穆启道;曹立新;;光刻技术的发展与光刻胶的应用[J];集成电路应用;2003年06期

3 潘家立;陶玉柱;;光刻胶之关键技术[J];集成电路应用;2003年06期

4 郑金红;;光刻胶的发展及应用[J];精细与专用化学品;2006年16期

5 Laird MacDowell;;光刻胶使用量预测与库存[J];集成电路应用;2007年08期

6 沈熙磊;;2010年全球光刻胶销售11.5亿美元未来3年将保持4.7%的年增长率[J];半导体信息;2011年04期

7 许箭;陈力;田凯军;胡睿;李沙瑜;王双青;杨国强;;先进光刻胶材料的研究进展[J];影像科学与光化学;2011年06期

8 张世权;朱斌;顾霞;;不同衬底材料对光刻胶剖面的影响[J];电子与封装;2013年08期

9 山峰孝,中村洋一,黄子伦;光学曝光用光刻胶的种类及其特性[J];微电子学;1980年02期

10 钱石南;光刻胶照相镀铬法[J];光学技术;1980年04期

中国重要会议论文全文数据库 前10条

1 韩婷婷;李波;李玉香;王卿璞;;超临界CO_2微乳液对高浓度离子注入光刻胶的清洗[A];第七届中国功能材料及其应用学术会议论文集（第6分册）[C];2010年

2 王力元;;193nm光刻胶用光产酸剂研制[A];集成电路配套材料研讨会及参展资料汇编[C];2004年

3 许箭;王双青;杨国强;;新型双酚A系列光刻胶的极紫外光刻研究[A];第十三届全国光化学学术讨论会论文集[C];2013年

4 王力元;王文君;张改莲;;193nm光刻胶适用硫摀盐光产酸剂的合成及性质[A];全面建设小康社会：中国科技工作者的历史责任——中国科协2003年学术年会论文集（上）[C];2003年

5 穆启道;;我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展[A];电子专用化学品高新技术与市场研讨会论文集[C];2004年

6 杨景华;贾少霞;李超波;夏洋;王守国;;常压射频介质阻挡等离子体去除光刻胶前后的FTIR分析[A];第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会会议摘要集[C];2013年

7 邹应全;;在MEMS加工中光刻胶的应用[A];2014第十五届中国辐射固化年会论文集[C];2014年

8 柯旭;巫文强;王跃川;;用于玻璃刻蚀的新型光刻胶[A];2006年全国高分子材料科学与工程研讨会论文集[C];2006年

9 许箭;陈力;王双青;杨国强;;含双酚A骨架结构分子玻璃化合物的制备及其在极紫外光刻中的应用[A];中国化学会第28届学术年会第11分会场摘要集[C];2012年

10 张晔;陈迪;张金娅;朱军;刘景全;;UV-LIGA中光源波长和曝光量对SU-8光刻胶微结构的影响[A];中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集（一）[C];2005年

中国重要报纸全文数据库 前10条

1 本报记者 赵艳秋;光刻胶行业：“刻”不容缓[N];中国电子报;2002年

2 记者 李大庆;我第一条百吨级高档光刻胶生产线投产[N];科技日报;2009年

3 北京科华微电子材料有限公司董事长兼总经理 陈昕;多方努力寻求高档光刻胶突破[N];中国电子报;2009年

4 盈如;永光建立世界级光刻胶供货商地位[N];电子资讯时报;2005年

5 本报记者 王莉;技术创新领跑微电子材料[N];苏州日报;2005年

6 吴坚;紧跟电子信息业发展步伐[N];中国化工报;2003年

7 苏州瑞红电子化学品有限公司技术部部长 顾奇;TFT用感光材料国内外技术悬殊国内化学品企业努力追赶[N];中国电子报;2009年

8 本文由永光化学电处技术发展部提供;光刻胶在LED工艺上的使用技术[N];电子资讯时报;2004年

9 ;永光化学：生产基地渐入佳境 LED光刻胶独树一帜[N];中国电子报;2008年

10 北京科华微电子材料有限公司董事长兼总经理 陈昕;TFT高性能光刻胶国产化势在必行[N];中国电子报;2009年

中国博士学位论文全文数据库 前6条

1 周新江;基于变量分离理论的光刻成像快速计算方法研究[D];华中科技大学;2015年

2 刘建国;耐高温紫外正型光刻胶和248nm深紫外光刻胶的研制[D];华中科技大学;2007年

3 唐雄贵;厚胶光学光刻技术研究[D];四川大学;2006年

4 魏杰;激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光[D];北京化工大学;1998年

5 李木军;接近式光刻仿真研究[D];中国科学技术大学;2007年

6 张晓蕾;超声提高SU-8光刻胶/金属基底界面结合强度研究[D];大连理工大学;2015年

中国硕士学位论文全文数据库 前10条

1 雷国韬;曲表面光刻胶涂覆技术研究[D];长春理工大学;2012年

2 张放;基于紫外光刻方法构建超疏水微纳结构及导电图案[D];北京化工大学;2015年

3 武磊;ZnS光学元件离子束抛光技术研究[D];西安工业大学;2014年

4 林庆浩;MEMS微型气体富集器的工艺制备研究[D];电子科技大学;2014年

5 陶焘;碘化铯荧光量子点增强光刻胶光刻效果的研究[D];上海交通大学;2013年

6 王瑛;紫外厚胶深光刻技术研究[D];长春理工大学;2010年

7 朱冬华;三苯胺多枝化合物为引发剂的光刻胶过程作用的研究与含三苯胺的化合物合成[D];苏州大学;2010年

8 冯伟;含氟气体的去光刻胶工艺灰化率提高的研究[D];上海交通大学;2007年

9 张春晖;光刻工艺中的曲面胶厚检测[D];浙江大学;2010年

10 韩婷婷;超临界CO_2微乳液去除光刻胶的研究[D];山东大学;2011年

，

本文编号：1109213