基于湿法清洗设备自动供液系统的研究

发布时间：2017-12-03 04:22

  本文关键词：基于湿法清洗设备自动供液系统的研究

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【摘要】：湿法清洗设备是半导体清洗行业中最普遍的设备,其电气控制方式受环境因素影响有其特殊性和专业性,清洗设备中的电气控制需要配合其清洗的特殊工艺而实现。同时清洗工艺过程具有强腐蚀性,也应该考虑电气设备的安全耐腐蚀防护。
【作者单位】： 中国电子科技集团公司第二研究所;
【分类号】：TN305.97
【正文快照】： 1概述常见的湿法清洗设备中用到的化学试剂大多为:99%的浓硫酸、H3PO4、HF、KOH、HCl等强腐蚀性溶液。以往清洗设备中所需的化学溶液均采用人工手动添加的方式,人工手动添加对设备操作人员存在一定的安全隐患,另外受人为因素影响,每次溶液的配置精度均不相同。故目前很多RCA清

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本文编号：1247428