对比不同特性蓝宝石抛光液的CMP性能

发布时间：2017-12-25 09:19

  本文关键词：对比不同特性蓝宝石抛光液的CMP性能　出处：《微纳电子技术》2016年11期 　论文类型：期刊论文

  更多相关文章： 蓝宝石 化学机械平坦化(CMP) 抛光液 化学作用 去除速率 表面形貌

【摘要】：比较了两种不同特性蓝宝石抛光液的化学机械平坦化(CMP)性能。在蓝宝石CMP过程中,针对抛光液pH值、硅溶胶磨料粒径以及抛光液中的化学添加剂(如螯合剂和表面活性剂)的作用进行了研究,以比较材料去除速率和表面形貌。分析表明,pH值和磨料粒径是影响蓝宝石材料去除率的主要因素,螯合剂和表面活性剂分别有助于提高蓝宝石的去除速率和降低表面粗糙度。研究结果表明,低pH值、小磨料粒径和以化学作用为主的蓝宝石抛光液具有良好的CMP性能。
【作者单位】： 河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室;华北理工大学;河北工业大学计算机科学与软件学院;
【基金】：国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308-003;2014ZX02301003-007) 河北省青年自然科学基金资助项目(F2015202267) 河北省自然科学重点资助项目(ZD2016123) 天津市自然科学基金资助项目(16JCYBJC16100)
【分类号】：TN305.2
【正文快照】： 0引言蓝宝石是一种单晶形式的α-Al2O3(刚玉),具有许多特殊的性质,如硬度高、热稳定性好、化学惰性强以及良好的透光性[1-2]。它是一种重要的陶瓷材料,广泛应用于光学、电子以及温度传感器等领域。对于这些应用,蓝宝石衬底的表面形貌是影响其性能的一个重要指标。在蓝宝石加工

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本文编号：1332244