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水溶液显影环氧乙烷光刻胶的显影条件及机理探索

发布时间:2018-03-24 23:30

  本文选题:电润湿 切入点:光刻胶 出处:《华南师范大学学报(自然科学版)》2017年01期


【摘要】:电润湿器件的传统工艺中利用SU-8光刻胶材料制备像素墙,从而得到最小的显示单元——像素.文中通过实验发现另一种环氧树脂光刻胶(KMPR胶)可以代替传统的SU-8光刻胶用来制备电润湿器件的像素墙.KMPR胶既可以采用有机溶剂进行显影,也可以采用碱性显影液,更利于环保.通过对比有机溶剂(PGMEA)和碱性显影液(KOH溶液、四甲基氢氧化铵TMAH溶液)对KMPR光刻胶的显影效果,得到最佳水溶液显影液——氢氧化钾(KOH)显影液及其显影的较佳浓度范围,研究了温度对KMPR光刻胶显影的影响,进而对显影机理进行了探讨.
[Abstract]:SU-8 photoresist is used to fabricate pixel wall in the traditional process of electrical wetting device. In this paper, we find that another kind of epoxy resin photoresist can replace the traditional SU-8 photoresist to prepare the pixel wall of electrical wetting device. It is also possible to use alkaline developer, which is more beneficial to environmental protection. By comparing the development effect of KMPR photoresist with organic solvent (PGMEA), alkaline developer solution (Koh) and tetramethylammonium hydroxide (TMAH), The optimum solution of aqueous solution, potassium hydroxide (Koh), and its optimum concentration range were obtained. The effect of temperature on the development of KMPR photoresist was studied, and the development mechanism was discussed.
【作者单位】: 华南师范大学华南先进光电子研究院彩色动态电子纸显示技术研究所;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院;
【基金】:科技部国家重点研发计划项目(2016YFB0401502) 国家自然科学基金项目(U1601651) 教育部“长江学者和创新团队发展计划”项目(IRT13064) 广东省引进创新科研团队计划项目(2011D039) 广东省重大基础培育项目(2014A030308013) 广东省重大科技专项项目(2014B090914004,2016B090906004) 华南师范大学研究生科研创新基金资助项目(2013KYJJ043) 国家高等学校学科创新引智计划111引智基地-光信息引智基地
【分类号】:TN305.7

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本文编号:1660560

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