利用干涉光刻技术制备LED表面微纳结构
本文选题：干涉光刻 切入点：周期结构 出处：《发光学报》2017年04期
【摘要】：为了制备大面积周期性微纳米结构以提高LED的发光效率,建立了劳厄德(Lloyd)干涉光刻系统。简单分析了该干涉光刻系统的工作原理,并介绍了利用干涉曝光工艺制备一维光栅、二维点阵、孔阵列等纳米结构图形的具体实验过程。最后对纳米图形进行结构转移,制备出了金属纳米结构。实验结果表明:利用劳厄德干涉光刻系统,可以在20 mm×20 mm大小的ITO衬底上稳定制备出周期为450 nm的均匀光栅或二维点阵列图形结构,它们的占空比也是可以调节变化的。
[Abstract]:In order to fabricate large area periodic microstructures to improve the luminescence efficiency of LED, a Lloyd Lloyd interference lithography system is established. The working principle of the interference lithography system is briefly analyzed, and the fabrication of one dimensional grating by using interference exposure technology is introduced. Finally, the metal nanostructures were prepared by the structural transfer of the nanostructures. The experimental results show that the Lauder interference lithography system is used to fabricate the metal nanostructures. A uniform grating with a period of 450nm or a two-dimensional dot array can be stably fabricated on a 20mm 脳 20mm ITO substrate, and their duty cycle can also be adjusted.
【作者单位】： 天津工业大学电子与信息工程学院;天津市光电检测技术与系统重点实验室;中国科学院半导体研究所;
【基金】：天津市自然科学基金(14JCQNJC01000) 国家自然科学基金(11404239,61575144,61504093) 集成光电子学国家重点联合实验室开放课题(IOSKL2014KF15)资助项目~~
【分类号】：TN305.7;TN312.8
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，本文编号：1689963
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