纳秒激光脉冲烧蚀硅产生的空洞结构

发布时间：2018-06-03 03:59

  本文选题：硅 + 纳秒激光脉冲　； 参考：《激光杂志》2016年06期

【摘要】：纳秒激光脉冲烧蚀硅产生的微纳结构具有广泛的应用前景。激光与硅相互作用过程涉及复杂动力学过程,本文利用1064nm、10ns激光脉冲烧蚀硅产生空洞结构,同时利用相爆炸理论对烧蚀形貌进行分析。研究结果表明:相爆炸使得硅材料发生剧烈的去除,在烧蚀中心产生深坑,而烧蚀产物在相爆炸的巨大压力作用下,高速飞溅,在坑外侧沉积。
[Abstract]:Nanosecond laser pulse ablation of silicon microstructures have a wide range of applications. The interaction between laser and silicon involves complex kinetic processes. In this paper, the cavity structure is generated by laser pulse ablation of silicon at 1064nm, and the morphology of ablation is analyzed by using phase explosion theory. The results show that the silicon material is removed violently by phase explosion, and deep pits are produced in the ablation center, and the ablation products are deposited on the outside of the pit at high speed under the huge pressure of the phase explosion.
【作者单位】： 河南工程学院电气信息工程学院;四川大学电子信息学院;
【基金】：国家自然科学基金青年基金(No.61403123) 高等学校重点科研项目(No.15A510020) 博士青年基金(No.2012012)
【分类号】：TN249;TN304.12

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本文编号：1971384