一种具有浮空P型埋层的新型FS-IGBT
[Abstract]:A novel field cut-off insulated gate transistor (FS-IGBT) with floating P buried layer at the anode is proposed. Combined with the idea of over-junction and anodic short-circuit, the breakdown voltage of the new structure is increased by 13.9% compared with the traditional FS-IGBT under the same simulation conditions. When the on-state current density is 150A / cm ~ 2, the optimized voltage drop increment of the new structure is less than 9, the turn-off time is more than 60% lower than that of the traditional structure, and there is no negative resistance in the operation, so a good compromise between the on-voltage drop and the turn-off power consumption is achieved.
【作者单位】: 南京邮电大学电子科学与工程学院;东南大学国家专用集成电路系统工程技术研究中心;
【基金】:国家自然科学基金资助项目(61274080) 中国博士后科学基金资助项目(2013M541585)
【分类号】:TN322.8
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,本文编号:2290123
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