印制板和电子元件的超临界流体清洗技术

发布时间：2018-11-08 14:00

【摘要】：文章分析了目前工业用的水基清洗和有机溶剂清洗技术,因对大气臭氧层的破坏以及对环境的污染问题,已不太适于电子工业发展的需要。目前最有希望的替代工艺就是超临界CO_2清洗技术,详细介绍了超临界CO_2清洗新技术的原理,使用条件与方法,新技术的优缺点及应用范围,强调该技术值得全国推广应用。
[Abstract]:In this paper, the water-based cleaning and organic solvent cleaning techniques used in industry are analyzed. Due to the destruction of the atmospheric ozone layer and the pollution to the environment, it is not suitable for the development of electronic industry. At present, the most promising alternative technology is supercritical CO_2 cleaning technology. The principle, application conditions and methods, advantages and disadvantages and application scope of the new supercritical CO_2 cleaning technology are introduced in detail. It is emphasized that this technique is worth popularizing and applying all over the country.
【作者单位】： 南京大学;广东哈福研究所;
【分类号】：TN41

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本文编号：2318700