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一种基于0.18μm CMOS工艺的高响应度APD

发布时间:2018-11-09 16:52
【摘要】:设计了一种基于0.18μm CMOS工艺的高响应度雪崩光电二极管(APD)。该APD采用标准0.18μm CMOS工艺,设计了两个P+/N阱型pn节,形成两个雪崩区以产生雪崩倍增电流。雪崩区两侧使用STI(浅沟道隔离)结构形成保护环,有效地抑制了APD的边缘击穿;并且新增加一个深N阱结构,使载流子在扩散到衬底之前被大量吸收,屏蔽了衬底吸收载流子产生的噪声,用以提高器件的响应度。通过理论分析,确定本文所设计的CMOS-APD器件光窗口面积为10μm×10μm,并得到了器件其他的结构和工艺参数。仿真结果表明:APD工作在480 nm波长的光照时,量子效率达到最高90%以上。在加反向偏压-15 V时,雪崩增益为72,此时响应度可达到2.96 A/W,3 d B带宽为4.8 GHz。
[Abstract]:A high responsivity avalanche photodiode (APD). Based on 0.18 渭 m CMOS process is designed. Using standard 0.18 渭 m CMOS process, two P / N well pn knots were designed to form two avalanche regions to generate avalanche doubling currents. STI (shallow Channel isolation) structure is used to form a protective ring on both sides of avalanche area, which effectively inhibits the edge breakdown of APD. A new deep N well structure is added, which absorbs the carriers before diffusion to the substrate, which shields the noise generated by the carriers in order to improve the responsivity of the devices. Through theoretical analysis, the optical window area of the CMOS-APD device designed in this paper is determined to be 10 渭 m 脳 10 渭 m, and other structure and process parameters of the device are obtained. The simulation results show that the quantum efficiency of APD is over 90% when it is illuminated at 480 nm wavelength. At -15 V reverse bias, the avalanche gain is 72, and the responsivity reaches 2.96 A / W / W 3 dB bandwidth of 4.8 GHz..
【作者单位】: 重庆邮电大学光电工程学院/国际半导体学院;
【分类号】:TN312.7

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本文编号:2321008

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