一种基于0.18μm CMOS工艺的高响应度APD
[Abstract]:A high responsivity avalanche photodiode (APD). Based on 0.18 渭 m CMOS process is designed. Using standard 0.18 渭 m CMOS process, two P / N well pn knots were designed to form two avalanche regions to generate avalanche doubling currents. STI (shallow Channel isolation) structure is used to form a protective ring on both sides of avalanche area, which effectively inhibits the edge breakdown of APD. A new deep N well structure is added, which absorbs the carriers before diffusion to the substrate, which shields the noise generated by the carriers in order to improve the responsivity of the devices. Through theoretical analysis, the optical window area of the CMOS-APD device designed in this paper is determined to be 10 渭 m 脳 10 渭 m, and other structure and process parameters of the device are obtained. The simulation results show that the quantum efficiency of APD is over 90% when it is illuminated at 480 nm wavelength. At -15 V reverse bias, the avalanche gain is 72, and the responsivity reaches 2.96 A / W / W 3 dB bandwidth of 4.8 GHz..
【作者单位】: 重庆邮电大学光电工程学院/国际半导体学院;
【分类号】:TN312.7
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本文编号:2321008
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