不同直径张应变锗材料对光谱和晶体质量的影响
[Abstract]:Tensile strain germanium (GE) material on insulator is a new type of semiconductor material which can improve the photoelectric properties of germanium material by energy band engineering. It has an important application prospect in the field of microelectronics and optoelectronics. The tensile strain germanium material was prepared on silicon (SOI) material on insulator by using the graphic processing method of microelectronic technology and the principle of germanium concentration. Raman and room temperature photoluminescence (PL) measurements show that the tensile strain of germanium on insulators with different circular radius is 0.54. For the strained germanium material on insulator, the red shift effect of strain is stronger than that of quantum well, and the red shift of the direct band luminescence peak of the strained germanium material on insulator will be caused by the effect of blue shift of the strain germanium material on the insulator. At the same time, the direct band luminescence intensity of 0.54% strained germanium decreases with the increase of circular radius, which is mainly due to the poor crystal quality of samples with large circular radius. The material can be further used in the preparation of germanium microelectronic and optoelectronic devices.
【作者单位】: 福建工程学院信息科学与工程学院;福建工程学院软件学院;
【基金】:国家自然科学基金资助项目(61604041) 福建省自然科学基金资助项目(2016J05147) 福建工程学院科研基金资助项目(GY-Z14073)
【分类号】:TN304
【参考文献】
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【共引文献】
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【二级参考文献】
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【相似文献】
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,本文编号:2324380
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