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GaAs/GaInP应变补偿超晶格的结构设计与制备

发布时间:2021-01-12 17:37
  通过理论分析和CrossLight软件的Lastip模块模拟,探究了垒层应变量、厚度、周期数对于In GaAs/GaInP/GaAs应变补偿超晶格结构增益的影响,并以超晶格结构为有源区,讨论了阈值电流和斜率效率的变化。选取合适的垒层厚度和组分可以得到最高的增益,并实现对阱层In GaAs的应变补偿,同时作为有源区能够保证较高的斜率效率和较低的阈值电流。利用实验室的MOCVD设备进行了GaInP和InGaAs材料的生长实验,探究了衬底偏向角和生长温度对于GaInP有序度的影响,以及In GaAs材料中In的设计组分与实际生长组分的差距。此外,分析了半导体激光器的波导结构对于输出特性的影响,针对980nm半导体激光器,提出了一种“折射率反渐变分布波导层”(RGRIN),通过探究RGRIN层的组分和厚度对于波导特性的影响,在不减小限制因子的前提下扩展近场光场,改善激光器的远场特性,从而得到了低阈值电流、小垂直发散角的激光器结构。 

【文章来源】:长春理工大学吉林省

【文章页数】:51 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

GaAs/GaInP应变补偿超晶格的结构设计与制备


第一二三类超晶格能带示意图

系统组成,超晶格,外延生长


的范围里都能对量子阱中的电子产生影响,说明超晶格的电子太厚时是普遍存在的,此时的多量子阱应该属于超晶格。研究最多的超晶格主要包括 GaAs/AlAs 超晶格、InAs/GaSb 超物的超晶格较为少见。本文将着重探讨三元的 InGaAs/GaInP激光器有源区时的性能。CVD 外延生长技术体材料的发展与外延生长技术的进步是分不开的,从最初的到现在的金属有机物化学气相沉积(MOCVD)和分子束外延(M半导体材料的操控已经达到了原子层面。以下简要介绍 MOCVDVD 设备是一种先进而复杂的晶体生长装置,通过气相源之间发五族化合物并沉积在衬底上形成薄膜。整个系统大体可以分为。

示意图,单量子阱,一维,电子


图 2.1 单量子阱电子受到的一维限制示意图 yz平面内的波函数,解的形式是单色平面波,()(,)ikykzyzyze zk 分别是电子在 y 方向和z 方向上的波矢量,可以取任意值。在 yz平面内不受任何限制,因此有V ( x) 0(方程后有 yzyzekkEm()2222 (得到 yz平面内的能量本征值

【参考文献】:
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博士论文
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硕士论文
[1]超晶格材料的子带结构[D]. 李华.山东大学 2006



本文编号:2973233

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