飞秒激光快速制备大面积二维微纳结构

发布时间：2021-05-24 16:28

　　采用数字微镜器件（DMD）无掩模光刻技术,以飞秒激光为光源,结合大面积拼接的方法快速制备了具有较高分辨率和毫米尺寸的大面积微纳结构。提出以单子场投影线扫描的方式进一步改善由于光场能量分布不均匀引起的结构边缘粗糙的问题,极大地降低了线条的边缘粗糙度,有效地控制了结构的精度。本研究以半导体领域常用的正性光刻胶为主要研究对象,实现了面积为7.4mm2的1μm等间距线阵列和面积为38.7mm2的10μm等间距线阵列结构的快速制备。本研究为大面积微纳结构制备提供了一种新方法,所制备结构可应用于气液流动、药物输运及晶体生长等领域。 

【文章来源】：激光与光电子学进展. 2020,57(11)北大核心CSCD

【文章页数】：8 页

【文章目录】：
1 引言
2 实验方案与装置
    2.1 实验试剂与仪器
    2.2 正胶微结构制备流程
3 结果与讨论
    3.1 分辨率
    3.2 边缘粗糙度
    3.3 大面积结构制备
    3.4 浸润性能表征
4 结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]数字掩模投影光刻的极限分辨率研究[J]. 刘玉环,赵圆圆,董贤子,郑美玲,段宣明,赵震声.  量子电子学报. 2019(03)
[2]飞秒激光直写制备蛋白质功能化器件[J]. 孙思明,孙允陆,刘东旭,陈岐岱,董文飞,孙洪波.  激光与光电子学进展. 2013(08)
[3]一种适用于数字微镜无掩模光刻的图形拼接方法[J]. 朱江平,胡松,于军胜,陈铭勇,何渝,刘旗.  中国激光. 2012(06)
[4]基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法及装置[J]. 严伟,胡松,唐小萍,赵立新,杨勇,蒋文波,周绍林,陈旺富.  电子工业专用设备. 2008(10)



本文编号：3204496