基于电渗驱动纳米压印技术研究
发布时间：2021-07-08 09:40
LED图形化行业对大面积纳米图形化具有巨大的需求,但现有各种微纳米制造技术难以满足其工业级生产的需求。尽管纳米压印被看作是最具潜能实现大面积纳米图形化的技术之一,但现有的大面积纳米压印存在的衬底翘曲易碎和填充不均匀的问题难以被解决。本文提出一种利用电渗驱动纳米压印新方式,其原理是用电渗流驱动力主动“提拉”光刻胶进入模具腔体来代替传统纳米压印中光刻胶被“挤压”进入模具腔体,彻底解决纳米压印中尤其是大面积纳米压印中衬底翘曲易碎和填充不均匀的难题。提出一种基于PDMS软模具结构的电渗驱动整片晶圆纳米压印的新工艺,用电渗驱动力代替传统纳米压印中施加在模板上的机械压力,有效保护了大面积纳米压印中的翘曲、易碎型衬底。分析了电渗流的基本原理,参考电渗流在微流控芯片领域的应用,结合传统大面积纳米压印中机械压印力的施压特点,推导出电渗驱动纳米压印代替传统纳米压印所需要的电场强度和填充时间。应用多物理场仿真软件COMSOL Multiophysics建立电渗驱动纳米压印理论模型,并对影响其填充的参数进行了数值分析。通过分析,得出如下结论:光刻胶填充进入模具腔体的速度特性是先快后慢,总体填充速度较快;电场强...
【文章来源】：青岛理工大学山东省
【文章页数】：79 页
【学位级别】：硕士
【图文】：
高亮度LED的应用Fig.1-1ApplyofhighbrightnessLEDLED光效的提高包含两个方面，即：提高内量子效率和光萃取效率
比如制造难度大，成本高等问题一直限制了 NPSS 大规模的应用。图1-2 给出了蓝宝石衬底图形化和光晶体 LED 的外形结构图。图 1-2 高亮度 LED（蓝宝石衬底图形化和光子晶体）Fig.1-2 High Brightness LED（sapphire substrate graphical and photonic crystal fiber）目前已经提出 LED 图形化的方法有多种，如光学光刻、电子束光刻、全息干涉光刻、纳米球珠光刻、阳极氧化铝模板（AAO）、刻蚀等[5～7]。但现有微纳制
者接近式光刻设备无法满足图形分辨率要米，焦深约 2 微米，对于 5 微米以上翘然满足纳米图形制造的要求，但成本高、AAO、激光干涉光刻等纳米制造方法也都在存在某方面的不足，无法满足规模化中叶，美国普林斯顿大学 Stephen Chou ithography）的概念[8]，这种技术是一种新。该技术借鉴了中国四大发明之一的印，类似于曝光和显影工艺，然后通过等传统的压印与现代微电子工艺和材料结的分辨率极限等问题，显示了超高分辨独特优点，很快受到业界的赞赏，并激发ou 教授当年提出的纳米压印原理技术图。
【参考文献】：
期刊论文
[1]电润湿纳米压印光刻胶的制备及其特性研究[J]. 黄春江,常刚,刘力行,曹瑞军,孟令杰. 信息记录材料. 2014(03)
[2]电驱动微纳米模塑技术的成形机理及工艺参数影响研究[J]. 丁玉成,田洪淼,邵金友,李祥明. 机械工程学报. 2013(06)
[3]数值分析电诱导流变成型技术外部因素的影响[J]. 田洪淼,邵金友,丁玉成,李欣,李祥明. 微纳电子技术. 2012(11)
[4]纳米压印技术进展及应用[J]. 罗康,段智勇. 电子工艺技术. 2009(05)
[5]电渗泵的研究进展[J]. 白竹川,高杨,刘婷婷,陈营端. 微纳电子技术. 2009(04)
硕士论文
[1]面向NPSS的滚对平面纳米压印光刻机的研究与开发[D]. 李朝朝.青岛理工大学 2013
[2]有机太阳能电池的电极调控[D]. 杨彬彬.苏州大学 2013
[3]微通道内交变电场驱动电渗流及其混合数值模拟[D]. 张磊.南昌大学 2011
本文编号：3271323
【文章来源】：青岛理工大学山东省
【文章页数】：79 页
【学位级别】：硕士
【图文】：
高亮度LED的应用Fig.1-1ApplyofhighbrightnessLEDLED光效的提高包含两个方面，即：提高内量子效率和光萃取效率
比如制造难度大，成本高等问题一直限制了 NPSS 大规模的应用。图1-2 给出了蓝宝石衬底图形化和光晶体 LED 的外形结构图。图 1-2 高亮度 LED（蓝宝石衬底图形化和光子晶体）Fig.1-2 High Brightness LED（sapphire substrate graphical and photonic crystal fiber）目前已经提出 LED 图形化的方法有多种，如光学光刻、电子束光刻、全息干涉光刻、纳米球珠光刻、阳极氧化铝模板（AAO）、刻蚀等[5～7]。但现有微纳制
者接近式光刻设备无法满足图形分辨率要米，焦深约 2 微米，对于 5 微米以上翘然满足纳米图形制造的要求，但成本高、AAO、激光干涉光刻等纳米制造方法也都在存在某方面的不足，无法满足规模化中叶，美国普林斯顿大学 Stephen Chou ithography）的概念[8]，这种技术是一种新。该技术借鉴了中国四大发明之一的印，类似于曝光和显影工艺，然后通过等传统的压印与现代微电子工艺和材料结的分辨率极限等问题，显示了超高分辨独特优点，很快受到业界的赞赏，并激发ou 教授当年提出的纳米压印原理技术图。
【参考文献】：
期刊论文
[1]电润湿纳米压印光刻胶的制备及其特性研究[J]. 黄春江,常刚,刘力行,曹瑞军,孟令杰. 信息记录材料. 2014(03)
[2]电驱动微纳米模塑技术的成形机理及工艺参数影响研究[J]. 丁玉成,田洪淼,邵金友,李祥明. 机械工程学报. 2013(06)
[3]数值分析电诱导流变成型技术外部因素的影响[J]. 田洪淼,邵金友,丁玉成,李欣,李祥明. 微纳电子技术. 2012(11)
[4]纳米压印技术进展及应用[J]. 罗康,段智勇. 电子工艺技术. 2009(05)
[5]电渗泵的研究进展[J]. 白竹川,高杨,刘婷婷,陈营端. 微纳电子技术. 2009(04)
硕士论文
[1]面向NPSS的滚对平面纳米压印光刻机的研究与开发[D]. 李朝朝.青岛理工大学 2013
[2]有机太阳能电池的电极调控[D]. 杨彬彬.苏州大学 2013
[3]微通道内交变电场驱动电渗流及其混合数值模拟[D]. 张磊.南昌大学 2011
本文编号：3271323
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