加热器/坩埚相对位置对ф200mm单晶硅生长过程中温度场和晶体质量的影响
发布时间:2021-08-09 09:31
采用CGSim晶体生长软件,对现有工业单晶炉中的加热器位置进行优化并分析了其对热场、固液界面、晶体中温度梯度和氧含量的影响。结果表明,随加热器的上移,功率消耗略有降低,熔体内的温度梯度逐渐下降,在高埚位的生长条件下可以适当提升拉晶速率;同时,固液界面也趋于平坦,晶体中的温度梯度有所减少,从而可以有效地抑制缺陷的形成。另外,晶体中的氧含量也有一定程度的下降。可以得出,在晶体等径生长初期,提高加热器的位置是降低晶体生长成本和提升晶体品质的途径之一。
【文章来源】:硅酸盐通报. 2016,35(11)北大核心CSCD
【文章页数】:6 页
【文章目录】:
1 引言
2 模型建立与计算参数
3 结果与讨论
3.1 加热器/坩埚相对位置对炉内温度场的影响
3.2 加热器/坩埚相对位置对晶体品质的影响
4 结论
【参考文献】:
期刊论文
[1]异型加热器在直拉硅单晶炉中的应用[J]. 吕菲,耿博耘. 中国电子科学研究院学报. 2015(06)
[2]加热器直径对200mm太阳能级单晶硅加热效率、能耗和氧含量的影响[J]. 高农农,葛林. 硅酸盐通报. 2015(12)
[3]直拉单晶炉减薄型加热器的数值模拟与实验分析[J]. 耿博耘,韩焕鹏. 电子工业专用设备. 2015(03)
[4]直拉法硅晶体生长中单晶炉坩埚内熔体的数值模拟[J]. 弋英民,张潼,刘丹. 西安理工大学学报. 2014(04)
[5]氩气流速对400mm大直径磁场直拉单晶硅固液界面、热应力及氧含量的影响[J]. 李进,张洪岩,高忙忙,周锐,薛子文,梁森,李国龙,李海波,何力军. 人工晶体学报. 2014(05)
[6]热屏位置对直拉硅单晶V/G、点缺陷和热应力影响的模拟[J]. 张向宇,关小军,潘忠奔,张怀金,曾庆凯,王进. 人工晶体学报. 2014(04)
[7]直拉硅单晶热场加热器设计分析[J]. 黄建明,杨晓欣. 炭素技术. 2013(06)
[8]坩埚在线圈中位置对大直径SiC单晶温度场影响[J]. 王英民,毛开礼,徐伟,侯晓蕊. 电子工艺技术. 2011(06)
[9]4英寸<111>硅单晶制备中的“断棱”与“掉苞”问题[J]. 裴志军,纪秀峰,刘峰. 半导体杂志. 1998(03)
本文编号:3331820
【文章来源】:硅酸盐通报. 2016,35(11)北大核心CSCD
【文章页数】:6 页
【文章目录】:
1 引言
2 模型建立与计算参数
3 结果与讨论
3.1 加热器/坩埚相对位置对炉内温度场的影响
3.2 加热器/坩埚相对位置对晶体品质的影响
4 结论
【参考文献】:
期刊论文
[1]异型加热器在直拉硅单晶炉中的应用[J]. 吕菲,耿博耘. 中国电子科学研究院学报. 2015(06)
[2]加热器直径对200mm太阳能级单晶硅加热效率、能耗和氧含量的影响[J]. 高农农,葛林. 硅酸盐通报. 2015(12)
[3]直拉单晶炉减薄型加热器的数值模拟与实验分析[J]. 耿博耘,韩焕鹏. 电子工业专用设备. 2015(03)
[4]直拉法硅晶体生长中单晶炉坩埚内熔体的数值模拟[J]. 弋英民,张潼,刘丹. 西安理工大学学报. 2014(04)
[5]氩气流速对400mm大直径磁场直拉单晶硅固液界面、热应力及氧含量的影响[J]. 李进,张洪岩,高忙忙,周锐,薛子文,梁森,李国龙,李海波,何力军. 人工晶体学报. 2014(05)
[6]热屏位置对直拉硅单晶V/G、点缺陷和热应力影响的模拟[J]. 张向宇,关小军,潘忠奔,张怀金,曾庆凯,王进. 人工晶体学报. 2014(04)
[7]直拉硅单晶热场加热器设计分析[J]. 黄建明,杨晓欣. 炭素技术. 2013(06)
[8]坩埚在线圈中位置对大直径SiC单晶温度场影响[J]. 王英民,毛开礼,徐伟,侯晓蕊. 电子工艺技术. 2011(06)
[9]4英寸<111>硅单晶制备中的“断棱”与“掉苞”问题[J]. 裴志军,纪秀峰,刘峰. 半导体杂志. 1998(03)
本文编号:3331820
本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/dianzigongchenglunwen/3331820.html