米量级光刻胶光栅的等离子体刻蚀

发布时间：2021-08-27 03:06

　　随着米量级光栅在高功率激光装置、大型光刻机设备等各大系统中的广泛引用,对米量级光栅的制作技术也提出了更高的要求。针对米量级光栅的制作,中国科学技术大学与苏州大学等单位已经发展出一套较为成熟的全息-离子束刻蚀工艺。但是,全息光刻制备的米量级光刻胶光栅槽底仍极易残留有多余的光刻胶,这将直接影响离子束刻蚀后光栅的槽深及均匀性,进而影响到光栅质量。本文针对米量级光刻胶光栅制备过程中的残余光刻胶问题,使用输出口径Φ40 mm的等离子体源,设计并制作了一个梯形扩散结构,取得了以下的研究成果:1、针对等离子体源,设计并制作了一种新的梯形扩散结构。该结构包含有两个部分:a.梯形中空扩散结构,主要起到扩散作用;b.可以调整间距的石墨栅栏结构,目的是将扩散后的等离子体进行二次调制,使其均匀分布。2、利用Fluent软件对梯形扩散结构进行仿真模拟,理论上验证了梯形扩散结构的可行性。仿真模拟结果表明,等离子体经过梯形扩散结构调制后能够扩散至600 mmX 40 mm的区域,且在500 mmX 40 mm分布均匀。3、设计了一系列等离子体刻蚀实验,利用小尺寸光栅阵列模拟米量级光栅,对梯形扩散结构的实际扩散匀化等... 

【文章来源】：中国科学技术大学安徽省 211工程院校 985工程院校

【文章页数】：69 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

图１－１激光脉冲啁嗽脉冲放大系统原理示意图??

量化、高效化的优点，十分符合大口径空间望远镜系统的设计要求，因此目前对??于衍射光学元件应用于超大口径空间望远镜系统在国际上己经有了十分广泛的??研宄［４２］。其中衍射光学元件以类光栅结构的菲涅尔波带片为主。图１＿４为美国国??４??

世界上第一台光栅刻划机由美国著名物理学家Ｈ．?Ａ．?Ｒｏｗｌａｎｄ成功研制，并??利用它制作出了当时最高性能的刻划光栅，因此Ｈ．?Ａ．?Ｒｏｗｌａｎｄ也被誉为光栅刻??划之父［４４］。刻划光栅的制作过程如图１－５所示，主要是利用刻刀在镀有金属薄??膜的基底上刻划出一道道细直线条，由刻划出的一定数量的线条组成光栅结构。??值得注意的是在光栅刻划的过程中不会产生任何切屑，因为刻刀是对基底上的金??属薄膜进行挤压成型而非传统切削［４５］。??５??

【参考文献】：
期刊论文
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博士论文
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本文编号：3365518