离子注入型硅掺砷阻挡杂质带长波红外探测器的研究
发布时间:2021-11-21 00:51
研究了基于离子注入技术制备硅掺砷阻挡杂质带探测器的工艺,通过优化工艺条件和相关器件的结构与材料参数,制造了具有良好光电响应性能的长波红外探测器。在温度5 K,-3.8 V工作偏压下,探测器的峰值响应波长为23.8μm,黑体响应率为3.7 A/W,3.2 V时最大探测率为5.2×1013 cm·Hz1/2/W。性能指标堪与文献报道的结果相媲美甚至更好,展示了离子注入工艺在制作阻挡杂质带探测器方面的潜在优势,特别是离子注入工艺与目前的微电子电路技术相兼容,能将探测器与读出电路集成到一块芯片上,在降低成本的同时提高探测器成像性能。
【文章来源】:红外与毫米波学报. 2020,39(03)北大核心EISCICSCD
【文章页数】:5 页
【部分图文】:
图1四次砷离子注人方案和分布??Fig.?1?Doping?profile?of?As?concentration?in?the?infrared-ac???---
LE15??0.0?0.1?0.2?0.3?0.4?0.5?0.6?0.7?0.8??深度/Hin??图1四次砷离子注人方案和分布??Fig.?1?Doping?profile?of?As?concentration?in?the?infrared-ac???tive?layer?by?four-different-energy?ion-implanted?scheme??离子注入??离子注入??.1化桂??U?U??图2离子注人阻挡杂质带探测器工艺流程简图??Fig.?2?Schematic?process?flow?of?the?ion-implanted?BIB?de???tector??的电极接触区接触良好要在氮气氛围下450?t退火??30分钟。探测器工艺完成后经激光切割可得单块??探测器样品。??2.1黑体响应率??黑体响应率是表征探测器对单位黑体辐射功??率产生的输出开路信号电压或短路信号电流。可??以通过公式=/ph/P,来表示,/ph为探测器的光电流,??P,为辐射到探测器光敏元上的能量,户,=4/£,儿为??探测器光敏元面积,£为黑体辐照度,黑体辐照度??公式??ea(T4?-?T^A?,、??E?=? ̄(1)??7TL??其中,a为调制因子;e为黑体辐射源的有效发射率;??cr为斯特潘-波尔兹曼常数;r为黑体温度,7;为环境??温度M为黑体辐射源的光阑面积,单位cm2;L为黑??体辐射源的光阑至被测探测器之间的距离,单位??cm。测试了阻挡层为3?pm的叉指型阻挡杂质带探??测器温度为5?K,黑体温度为800?K,斩波器频率为??277?Hz的黑体响应,响应率曲线如图4所
?E?=? ̄(1)??7TL??其中,a为调制因子;e为黑体辐射源的有效发射率;??cr为斯特潘-波尔兹曼常数;r为黑体温度,7;为环境??温度M为黑体辐射源的光阑面积,单位cm2;L为黑??体辐射源的光阑至被测探测器之间的距离,单位??cm。测试了阻挡层为3?pm的叉指型阻挡杂质带探??测器温度为5?K,黑体温度为800?K,斩波器频率为??277?Hz的黑体响应,响应率曲线如图4所示。??1E18??2器件测试与分析??IE19??学和电学方面的测试:??mm??图3?u)阻挡杂质带探测器局部放大图和(b)封装示意图??Fig.?3?(a)?BIB?detector*?s?partial?enlarged?detail?and?(?b)??package?of?BIB?detector??图3是器件的封装和探测器局部放大图,由图3??(a)局部放大图可以看到,上面部分是直线型的探测??器,下面部分是叉指型的探测器。设计了直线型和??叉指型两种结构以及相应不同阻挡层厚度的探测??器进行了实验。白色部分是铝电极,两个紧挨着的??电极之间的部分是探测的吸收层和阻挡层,表面覆??盖了一层氮化硅作为钝化层以抑制表面暗电流。??探测器的响应波长可达30?pm,需要在深低温??下进行测试。将探测器通过低温胶粘到冷指上,再??通过点焊方式将导线引出接到PCB板上进行测试。??通过如图3b所示的封装,就可以进行器件的低温光??-4?-3?-2?-1?0?1?2?3?4??偏差/V??图4探测器温度5K黑体响应率??Fig.?4?Blackbody?responsivity?vs?bias?voltage?at
【参考文献】:
期刊论文
[1]用于远红外探测的Si:P阻挡杂质带红外探测器研制[J]. 廖开升,李志锋,王超,李梁,周孝好,李宁,戴宁. 红外与毫米波学报. 2016(01)
[2]天文用阻挡杂质带红外探测器[J]. 廖开升,刘希辉,黄亮,李志锋,李宁,戴宁. 中国科学:物理学 力学 天文学. 2014(04)
本文编号:3508428
【文章来源】:红外与毫米波学报. 2020,39(03)北大核心EISCICSCD
【文章页数】:5 页
【部分图文】:
图1四次砷离子注人方案和分布??Fig.?1?Doping?profile?of?As?concentration?in?the?infrared-ac???---
LE15??0.0?0.1?0.2?0.3?0.4?0.5?0.6?0.7?0.8??深度/Hin??图1四次砷离子注人方案和分布??Fig.?1?Doping?profile?of?As?concentration?in?the?infrared-ac???tive?layer?by?four-different-energy?ion-implanted?scheme??离子注入??离子注入??.1化桂??U?U??图2离子注人阻挡杂质带探测器工艺流程简图??Fig.?2?Schematic?process?flow?of?the?ion-implanted?BIB?de???tector??的电极接触区接触良好要在氮气氛围下450?t退火??30分钟。探测器工艺完成后经激光切割可得单块??探测器样品。??2.1黑体响应率??黑体响应率是表征探测器对单位黑体辐射功??率产生的输出开路信号电压或短路信号电流。可??以通过公式=/ph/P,来表示,/ph为探测器的光电流,??P,为辐射到探测器光敏元上的能量,户,=4/£,儿为??探测器光敏元面积,£为黑体辐照度,黑体辐照度??公式??ea(T4?-?T^A?,、??E?=? ̄(1)??7TL??其中,a为调制因子;e为黑体辐射源的有效发射率;??cr为斯特潘-波尔兹曼常数;r为黑体温度,7;为环境??温度M为黑体辐射源的光阑面积,单位cm2;L为黑??体辐射源的光阑至被测探测器之间的距离,单位??cm。测试了阻挡层为3?pm的叉指型阻挡杂质带探??测器温度为5?K,黑体温度为800?K,斩波器频率为??277?Hz的黑体响应,响应率曲线如图4所
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【参考文献】:
期刊论文
[1]用于远红外探测的Si:P阻挡杂质带红外探测器研制[J]. 廖开升,李志锋,王超,李梁,周孝好,李宁,戴宁. 红外与毫米波学报. 2016(01)
[2]天文用阻挡杂质带红外探测器[J]. 廖开升,刘希辉,黄亮,李志锋,李宁,戴宁. 中国科学:物理学 力学 天文学. 2014(04)
本文编号:3508428
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