低对比度光栅诱导的激光腔中准连续域束缚态研究

发布时间：2022-07-22 15:38

　　光子晶体等人工微结构中出现的连续域束缚态（BIC）处于光锥以上却不与背景泄漏模耦合,具有无限高的品质因数（Q值）,构建在BIC或准BIC工作的激光器具有低阈值的优点。而低对比度光栅常用于低成本激光器的模式调制和耦出。针对激光器简化三层平板结构,提出利用上盖层刻蚀低对比度光栅诱导出Q值高达9.2×105的准BIC模式,并发现激光腔中模式的Q值对有源层的厚度变化相比上盖层光栅刻蚀深度的变化更敏感,且下盖层的厚度变化使Q值被周期性增强,准BIC的Q值可以被增强到9.66×106。研究结果对光栅基的低阈值电注入面发射激光器的设计具有指导意义。 

【文章页数】：5 页

【文章目录】：
0 引言
1 刻蚀LCG的简化三层平板激光器结构
2 模拟与分析
    2.1 上盖层刻蚀低对比光栅诱导出准BIC
    2.2 中间有源层厚度设计和分析
    2.3 下盖层厚度的优化和分析
3 结论



本文编号：3664881