多尺度微纳米流道光刻压印工艺及关键技术研究

发布时间：2022-12-08 23:17

　　光刻压印是多尺度微纳米流道工艺设计的关键技术,依据SU8-2025光刻胶与波长为350nm～400nm之间紫外激光光化学作用产生强酸的原理,选用黏度2500cSt、最大复型高度25的SU8-2025负性光刻胶和聚甲基丙烯酸甲酯（PolymethylMethacrylate,PMMA）正性光刻胶,通过微纳米套刻工艺的优化,实现了多尺度微纳米流道复型压印光刻,解决了涂胶、套刻、温控、显影以及微纳米结构光学测量等关键的技术问题,提高了微纳米流道内表面的质量,为可降解血管支架的性能检测提供了新的研究思路,也为多尺度复杂异形体的复型制造研究和发展提供必要的科学依据。 

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【文章目录】：
0 引言
1 纳米压印光刻工艺
    1.1 热压印工艺
    1.2 紫外光复型光刻工艺
    1.3 微接触印刷工艺
2 微流道复型工艺及其关键技术
    2.1 多尺度微流道基本参数及其掩模版
    2.2 复型工艺过程设计
    2.3 关键技术分析
        2.3.1 掩模版制作
        2.3.2 模具表面处理与滩涂工艺
        2.3.3 光刻胶的前烘、光刻、后烘、曝光以及显影处理方法
        2.3.4 流道内表面检测及其后处理方法
        2.3.5 微流道器件在新型可降解血管支架设计中应用
3 结语


【参考文献】：
期刊论文
[1]新型可降解聚合物血管支架的体内血栓形成评价[J]. 郑利萍,贾莉芳,袁暾,梁洁.  生物医学工程学杂志. 2019(02)
[2]生物可降解材料聚乳酸在血管支架制备中的应用[J]. 朱月琳,汤文浩,胡双龙,赵杰,周敏,李晓强.  血管与腔内血管外科杂志. 2017(05)
[3]SU-8的紫外深度光刻模拟[J]. 田学红,刘刚,田扬超,张新夷.  真空科学与技术. 2002(06)



本文编号：3714325