聚酰亚胺基底金属薄膜激光刻蚀温度场分布

发布时间：2017-06-16 17:08

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【摘要】：为研究脉冲激光刻蚀聚酰亚胺基底镀金属薄膜过程,采用有限元软件COMSOL Multiphysics构建高斯脉冲激光辐照复合材料的2维非稳态物理模型,通过求解热传导方程计算不同功率激光辐照金属薄膜的温度场分布,讨论不同激光参数对刻蚀进程的影响。模拟结果表明:刻蚀深度主要受激光功率密度的影响,且随着金属薄膜厚度的增加,激光刻蚀深度先减小后保持不变。在刻蚀过程中,为了更好地保护基底,应选择大功率短脉宽的激光参数;由于铜薄膜比铝薄膜更难刻蚀,在铜薄膜的刻蚀过程中应选择较大功率密度的激光。结果有助于理解激光刻蚀过程,对实际刻蚀过程有一定的指导意义。
【作者单位】： 兰州理工大学材料科学与工程学院;兰州空间技术物理研究所真空低温技术与物理国家级重点实验室;
【关键词】： 激光技术 脉冲激光 激光刻蚀 金属薄膜 聚酰亚胺 温度场 刻蚀深度
【基金】：国家自然科学基金(51135005) 兰州空间技术物理研究所开放基金项目(合同510审支(2015)X07-005号)
【分类号】：TN249
【正文快照】： 1引言激光刻蚀也称为激光烧蚀,是利用脉冲激光将材料表面迅速加热气化,达到材料局部去除的过程。它具0503009-1有高速、高精度[1]、高适应性等特点,同时还具有非接触、不引入应力、热影响区小、刻蚀面质量好、刻蚀时无噪音、刻蚀过程容易实现自动化控制等优点,因此激光刻蚀在

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本文编号：455952