光刻技术在微电子设备中的应用及发展

发布时间：2017-06-28 23:10

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【摘要】：近些年来,伴随着我国芯片集成水平的高度提升,其对光刻技术的要求也不断提高,在二十世纪末,科学界一致坚信光刻技术的的最低分辨率是0.5,但是伴随着扫描技术、分辨率增强技术水平的提升与抗蚀剂等技术的应用,当下光刻技术分辨率已经降低至0.1,甚至能够低于0.1,虽然还是存在较多人对光刻技术的发展前景并不看好,但是其依旧凭借着不断钻研的精神,屡屡打破确定的分辨率极限,因此,本文主要针对当下光刻技术在微电子设备的实际应用与相关的发展前景进行深入的分析,希望能为我国光刻技术水平的提升具有一定的帮助。
【作者单位】： 扬州大学物理科学与技术学院;
【关键词】： 光刻技术 微电子设备 发展
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 自世界上的首个晶体管被研发以来,半导体已经历经了半个多世纪的发展历史,目前,其依旧具有十分美好的发展前景。光刻技术主要是通过复制的方式将模板印到相关材料上从而形成电路,一开始,光刻技术的使用是微电子行业发展的重点,但是现在,光刻技术在众多行业都得到了十分广泛的

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