光学石英玻璃CMP抛光液的研究

发布时间：2017-07-03 20:22

  本文关键词：光学石英玻璃CMP抛光液的研究

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【摘要】：针对光学石英玻璃在表面化学机械抛光(CMP)过程中易出现表面及亚表面损伤和蚀坑等缺陷问题,提出了采用低抛光压力和低磨料体积分数的CMP方法。机械作用是引起表面及亚表面损伤的关键因素,低抛光压力可以有效降低抛光过程中施于晶体表面的机械作用,抛光液中低磨料体积分数既可降低一定的机械作用又可降低由于高磨料体积分数引起的表面沾污。在降低机械作用的基础上,为获得较高的去除速率和较佳的表面质量,选用大分子胺碱作为pH调节剂,以增加质量传递作用。通过大量实验证实,粒径60 nm的硅溶胶磨料体积分数为8%、活性剂体积分数为5%、螯合剂体积分数为1%、pH值为9和抛光压力为1 psi(1 psi=6 895 Pa)的条件下,可获得较高的去除速率和较佳的表面质量,此时的去除速率为52.8 nm/min、表面粗糙度为0.126 nm。此结果可对业内此类材料的超精密加工提供一定的参考。
【作者单位】： 河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室;
【关键词】： 石英玻璃 化学机械抛光(CMP) 表面缺陷 去除速率 表面粗糙度
【基金】：国家02重大专项(2016ZX02301003-004-007) 河北省自然科学基金资助项目(E2013202247,F2015202267) 天津市自然科学基金资助项目(16JCYBJC16100)
【分类号】：TN305.2
【正文快照】： 2.天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130)0引言光学石英玻璃在紫外、可见和近红外光谱区域(波长185~3 500 nm)有优异的透过性能,并具有耐高温、热膨胀系数极小、化学性能稳定、耐辐射等独特优点,是光学精密器件常用的光学及衬底材料,被广泛用于空间、航空航天、探测系统

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本文编号：515099