磁流变抛光对熔石英激光损伤特性的影响

发布时间：2017-08-23 17:15

  本文关键词：磁流变抛光对熔石英激光损伤特性的影响

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【摘要】：为进一步提升熔石英元件的激光损伤阈值,研究了氢氟酸(HF)动态酸刻蚀条件下磁流变抛光工艺对熔石英元件激光损伤特性的影响规律。首先,采用不同工艺制备熔石英元件,测量它们的表面粗糙度。然后,采用飞行时间-二次离子质谱法(OF-SIMS)检测磁流变加工前后熔石英元件中金属杂质元素的含量和深度;采用1-on-1方法测试激光损伤阈值,观测损伤形貌,并对损伤坑的形态进行统计。最后,分析了磁流变抛光工艺提升熔石英损伤阈值的原因。与未经磁流变处理的熔石英元件进行了对比,结果显示:磁流变抛光使熔石英元件的零概率激光损伤阈值提升了23.3%,金属杂质元素含量也显著降低,尤其是对熔石英激光损伤特性有重要影响的Ce元素被完全消除。得到的结果表明,磁流变抛光工艺能够被用作HF酸动态酸刻蚀的前道处理工艺。
【作者单位】： 国防科技大学机电工程与自动化学院湖南超精密加工技术重点实验室;
【关键词】： 磁流变抛光 熔石英 光学元件 氢氟酸(HF)动态刻蚀 激光损伤阈值
【基金】：国家自然科学基金资助项目(No.51675526,No.91323302,No.51275521)
【分类号】：TN249
【正文快照】： 1引言在美国国家点火装置[1]、法国兆焦耳激光系统[2]、中国神光装置[3]等高功率激光装置中,熔石英作为一种宽禁带材料,广泛应用于制作紫外波段的聚焦透镜、分光镜和防护罩等元件。尤其在承受最高激光通量辐照的终端元件部分,熔石英光学元件的数量最多。然而,熔石英元件的激光

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本文编号：726278