集成电路光刻工艺研究

发布时间：2017-09-02 18:26

  本文关键词：集成电路光刻工艺研究

  更多相关文章： 集成电路 光刻 工艺 光刻胶

【摘要】：光刻是利用特定工艺将掩膜板上的集成电路图形印制到硅片上的精密表面加工技术。在集成电路制造工艺中,光刻是最为重要的工艺之一。它决定着芯片的最小特征尺寸,占芯片制造时间的40-50%,并且占制造成本的30%。本文通过对光刻工艺的主要步骤的分析,研究了正胶及负胶的特性,探讨了未来光刻工艺发展的方向。
【作者单位】： 三峡电力职业学院;
【关键词】： 集成电路 光刻 工艺 光刻胶
【正文快照】： 1绪论1.1集成电路集成电路(Integrated Circuit,简称IC)是20世纪60年代初期发展起来的一种新型半导体器件。它是经过氧化、光刻、扩散、外延、蒸铝等半导体制造工艺,把构成具有一定功能的电路所需的半导体、电阻、电容等元件及它们之间的连接导线全部集成在一小块硅片上,然后

【相似文献】

中国重要会议论文全文数据库 前4条

1 ;现代光刻工艺中的分辨率增强技术(英文)[A];大珩先生九十华诞文集暨中国光学学会2004年学术大会论文集[C];2004年

2 赵兹君;;薄膜光刻工艺参数的优化[A];中国电子学会第十五届电子元件学术年会论文集[C];2008年

3 刘智怀;龚勇清;李平贵;;微光学元件光刻工艺对焦方法研究[A];第十七届十三省（市）光学学术年会暨“五省一市光学联合年会”论文集[C];2008年

4 曲炳郡;夏善红;李路明;王立鼎;;TiNi形状记忆薄膜的光刻新工艺[A];中国仪器仪表学会第三届青年学术会议论文集（下）[C];2001年

中国硕士学位论文全文数据库 前10条

1 冯奎;深紫外线曝光光罩结晶状缺陷的生长机理和预防[D];复旦大学;2014年

2 李敏;用于声表面波器件制备的激光直写光刻工艺研究[D];河北工业大学;2015年

3 马进;基于知识的集成电路光刻工艺设计系统研究[D];上海交通大学;2011年

4 金晓刚;光刻工艺中的焦距异常发生原因分析及解决办法[D];复旦大学;2009年

5 唐夏;0.13μm集成电路光刻工艺平台优化和光刻分辨率增强技术的研究[D];复旦大学;2010年

6 马亮;薄膜晶体管液晶显示器四次光刻工艺研究[D];天津大学;2010年

7 林盛浩;半导体匀胶系统的研究与优化设计[D];电子科技大学;2010年

8 凌意明;0.15微米工艺光刻图形缺陷攻关项目管理[D];复旦大学;2010年

9 白兰萍;0.35微米BiCMOS光刻工艺参数的优化[D];天津大学;2009年

10 王军;光刻工艺中聚酰亚胺层光阻减量和线宽均匀性研究[D];天津大学;2012年

，

本文编号：780180