高功率激光系统中缺陷引起的近场调制分析

发布时间：2017-09-13 07:34

本文关键词：高功率激光系统中缺陷引起的近场调制分析

【摘要】：高功率激光装置中通过测量光束强度分布来评价近场光束质量。然而测量结果为一稳态分布,并不能真实反映经噪声扰动后光束的强弱调制演变特性,可能会忽略传输过程中存在的调制较为严重的区域。针对此问题着重研究了光束经噪声扰动后的近场传输演化特性,进而对近场分布测量的局限性进行深化理解和补充。同时,为简化分析单因素局部缺陷影响下不同传播距离处的近场分布变化规律,引入等效菲涅耳数来表征近场强度调制特性。结果表明,当实测近场分布中存在较弱调制信息时,测量位置之前可能存在更为严重的调制区域。以调制为π的相位型缺陷为例,其最大调制相对于入射光强度可增大9倍。
【作者单位】：中科院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室;中国科学院大学;
【关键词】： 物理光学 近场光束质量 等效菲涅耳数 表面缺陷
【分类号】：TN24
【正文快照】： 1引言光束质量不仅是衡量激光器输出性能的重要指标,同时还影响着激光系统的负载能力及物理实验的成败。光束经光学元件及空气传输后会受到不同程度的扰动,经扰动的近场光束强度分布在传输过程中千变万化,因而诊断系统测量的近场并不能准确反映近场传输光束的调制状况。根据扰

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