RZJ-304光刻胶压电雾化喷涂工艺及其应用

发布时间：2017-09-17 12:21

  本文关键词：RZJ-304光刻胶压电雾化喷涂工艺及其应用

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【摘要】：在自主搭建的压电雾化喷涂系统上,以RZJ-304正性光刻胶为研究对象,圆形抛光硅片为基材,研究了稀释体积比、预热温度以及喷涂层数对光刻胶薄膜平均厚度及均匀性的影响,并得到最佳工艺参数。以具有方形结构的抛光硅片为基材,分别进行压电雾化喷涂法和离心旋转法涂胶,并进行图案光刻,结果表明压电雾化喷涂法可以在非圆形形貌上得到清晰完整的图案,克服了传统离心旋转法无法在非圆形面上涂胶的缺陷,验证了压电雾化喷涂法在非圆形形貌应用中的可行性。
【作者单位】： 苏州大学江苏省机器人与微系统研究中心;苏州大学苏州纳米科技协同创新中心;
【关键词】： 正性光刻胶 压电雾化喷涂 平均厚度 均匀性 抛光硅片 方形结构
【基金】：国家自然科学基金仪器重大专项(61327811) 苏州市科学发展计划纳米技术专项(ZXG201433) 欧盟第七框架国际合作基金(PIRSES-GA-2013-612641)
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 近年来,随着微机电系统(Micro electro-mechanical systems,MEMS)和先进封装技术的迅速发展,光刻得到了广泛的应用,对光刻胶的涂覆要求变得愈来愈严格,而目前适用于圆形平面涂胶的传统离心旋转法已无法满足非圆形面上的涂胶[1-2]。如在具有方形形貌结构上旋涂时,离心状态下的

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本文编号：869381