离子色谱法测定蚀刻槽废氢氟酸中的六氟硅酸

发布时间：2017-09-21 12:36

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【摘要】：建立了一种新的检测蚀刻槽废氢氟酸中六氟硅酸的离子色谱方法。色谱柱为Metrosep A Supp 7阴离子交换柱,流动相为3.2 mmol/L碳酸钠-1.0 mmol/L碳酸氢钠,流速为0.7 m L/min。六氟硅酸经过抑制型电导检测器后进行衍生化反应,在360 nm波长下用紫外检测器检测。六氟硅酸的线性范围为2.4~120 mg/L,相关系数r2大于0.999,定量限为0.24 mg/L,平均加标回收率为97.2%。本方法还可以同时利用电导检测器检测废氢氟酸中的氢氟酸、醋酸、盐酸、硝酸、磷酸和硫酸的含量。该方法快速、准确,适用于蚀刻槽液中六氟硅酸的检测。
【作者单位】： 瑞士万通中国有限公司;
【关键词】： 离子色谱 紫外检测器 电导检测器 六氟硅酸
【分类号】：TN305;O657.75
【正文快照】： 在半导体制作过程中,单晶硅与多晶硅的蚀刻通常利用硝酸与氢氟酸的混合液来进行,氢氟酸将形成的二氧化硅溶解去除,生成六氟硅酸[1]。因此监控槽液中六氟硅酸、氢氟酸等酸的含量对生产过程的控制有重要意义。六氟硅酸可用酸碱滴定法测定[2],但该方法在复杂的混酸体系中有一定的

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1 俞锦成;;氟硅酸钡容量法测定硅铁中硅[J];铁合金;1985年03期

2 王德泳;王献科;;氟硅酸钡容量法测定二氧化硅[J];新疆有色金属;1990年01期

3 ;[J];;年期

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本文编号：894563