超大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法

发布时间：2017-09-30 21:29

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【摘要】：提出了一种基于空间像主成分分析的超大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法。通过采用偏振光照明和矢量光刻成像模型并考虑投影物镜的偏振像差,准确表征了超大数值孔径光刻机的空间像,从而提高了像差检测模型的精度,实现了超大数值孔径光刻机投影物镜33项泽尼克像差(Z5~Z37)的高精度检测。相比于原基于空间像主成分分析的投影物镜成像差检测技术(AMAI-PCA)方法,所提方法适用于超大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测。采用光刻仿真软件PROLITH对所提方法的检测精度进行了仿真验证,并分析了空间像采样间隔对波像差检测精度的影响。仿真结果表明,该方法对泽尼克像差(Z5~Z37)的检测精度优于0.85×10-3λ。
【作者单位】： 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室;中国科学院大学;上海微电子装备有限公司;
【关键词】： 测量 光刻 波像差检测 超大数值孔径 空间像 主成分分析
【基金】：国家自然科学基金(61205102,61275207,61405210,61474129)
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 1引言光刻机是极大规模集成电路制造的核心设备之一。投影物镜是光刻机最重要的分系统之一。投影物镜的波像差影响光刻机的成像质量,造成成像对比度降低,工艺窗口缩小[1-3]。国际上多家光刻机研发单位开发了各自的投影物镜波像差检测技术[4-14],根据测量对象的不同这些技术可

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本文编号：950522