聚焦离子束微纳加工的溅射刻蚀工艺模型研究

发布时间：2017-10-03 18:26

  本文关键词：聚焦离子束微纳加工的溅射刻蚀工艺模型研究

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【摘要】：提出基于连续元胞自动机的聚焦离子束溅射刻蚀工艺模型,该模型可以有效引入实际工艺参数和扫描策略,建立溅射与再沉积方程,准确地表达离子束加工导致的溅射和再沉积效应,精确地描述这些效应导致的表面结构演化过程。在多种工艺因素和扫描策略的条件下,工艺模型的计算结果中,溅射刻蚀与再沉积效应能够与试验现象一致。加工截面轮廓的模拟结果,刻蚀深度随时间变化相对误差小于8%,精度高于现有的模型,验证了模型的有效性。连续元胞自动机模型不仅具备计算精度高的特点,而且有更好的可视化输出效果,为聚焦离子束加工微纳结构提供工艺参数优化方法。
【作者单位】： 东南大学机械工程学院;
【关键词】： 聚焦离子束刻蚀 连续元胞自动机 再沉积效应 工艺模型
【基金】：国家自然科学基金资助项目(51375093)
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 0前言*聚焦离子束技术(Focused ion beam,FIB)是通过透镜系统将液态离子源(Liquid metal ion source,LMIS)发射的离子聚焦并轰击于材料表面,实现材料在亚微米和纳米尺度进行加工的工艺。作为FIB最重要的功能之一,离子溅射刻蚀加工可以简单直观高分辨率地加工出曲面与空腔等各

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本文编号：966030