低比表面积纳米二氧化硅的制备研究

发布时间：2017-12-05 14:35

  本文关键词：低比表面积纳米二氧化硅的制备研究

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【摘要】：以含有Si—O—Si键及Si—Si键的物质为原料,采用气相法制备低比表面积纳米二氧化硅。考察不同分子结构对最终样品粒度、比表面积的影响。采用低温氮吸附、纳米粒度测试等手段对样品进行了表征。结果表明,Si—O—Si形式的分子结构更有利于形成低比表面积的纳米二氧化硅,分子中取代基团对样品孔特性及粒度也有明显影响。
【作者单位】： 宁夏胜蓝化工环保科技有限公司;宁波大学建筑工程与环境学院;
【基金】：科技部科技型中小企业技术创新基金(11C26216406395)
【分类号】：TB383.1;TQ127.2
【正文快照】： 纳米二氧化硅在工业领域有着重要的应用,比如高分子复合材料、塑料、橡胶、涂料、油墨、电子封装材料、陶瓷、密封剂、食品等[1-2]。目前商业化的纳米二氧化硅(气相法白炭黑或沉淀法白炭黑)都具有较大的比表面积[3]。与上述高比表面二氧化硅不同,在一些特殊领域需要使用比表面

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