微米金刚石薄膜的制备与场发射研究

发布时间：2018-02-26 07:26

  本文关键词： 微米金刚石薄膜 场致电子发射 发射点密度 微波等离子体化学气相沉积　出处：《电子器件》2016年01期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法,在镀金属钛层的陶瓷基底上面,调整优化沉积参数,制备出了碳膜。通过各种仪器分析了碳膜的内部结构和表面形貌,证明该碳膜是微米金刚石薄膜。进一步将微米金刚石薄膜作为场发射阴极材料,测试了其场致电子发射特性。稳定发射状态下的开启电场为1.15 V/μm,在3.35 V/μm的电场下,其场发射电流密度为0.81 m A/cm2,发射点密度约为104/cm2。并对其发射机理进行了研究。
[Abstract]:By means of microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) method, the carbon film was prepared by adjusting the deposition parameters on the ceramic substrate of the metal-plated titanium layer. The internal structure and surface morphology of the carbon film were analyzed by various instruments. It is proved that the carbon film is a micron diamond film. The field emission characteristics of the carbon film are measured by using the micrometer diamond film as the field emission cathode material. The open electric field is 1.15 V / 渭 m and 3.35 V / 渭 m under stable emission state. The field emission current density is 0.81 Ma / cm ~ (2) and the emission point density is about 104% 路cm ~ (2). The emission mechanism is studied.
【作者单位】： 郑州师范学院物理系;郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室;
【基金】：教育部科学技术重点项目(205091) 河南省高等学校青年骨干教师计划项目(教高〔2011〕550号) 河南省科学技术成果项目(教高豫科鉴委字〔2015〕第569号)
【分类号】：TB383.2;TQ163

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本文编号：1537051