当前位置:主页 > 科技论文 > 化工论文 >

丁二酰亚胺体系无氰镀铜添加剂的研究

发布时间:2018-03-21 11:22

  本文选题:丁二酰亚胺 切入点:光亮剂 出处:《电镀与环保》2017年04期  论文类型:期刊论文


【摘要】:先通过单因素试验,研究了光亮剂(2-巯基苯并咪唑、二氧化硒)和表面活性剂(十二烷基苯磺酸钠、聚乙二醇10000)对无氰镀铜层光泽度的影响。确定的基础镀液组成和工艺条件为:硫酸铜50g/L,丁二酰亚胺90g/L,三乙醇胺40g/L,柠檬酸20g/L,氢氧化钾60g/L,pH值9.0~9.5,温度20~30°C,电流密度2A/dm2,时间5min。再通过正交试验,得到较优的复合添加剂配方为:2-巯基苯并咪唑1.5mg/L,聚乙二醇10000 40mg/L。加入复合添加剂后,镀液的稳定性提高,电流效率、分散能力和覆盖能力分别为82.4%、75.0%和100.0%;镀层表面平整,结晶细致,结合力强,沿(111)晶面的取向更为明显。
[Abstract]:In this paper, a single factor experiment was carried out to study the brightener, 2-mercaptobenzimidazole, selenium dioxide, and surfactant (sodium 12 alkylbenzenesulfonate, sodium alkyl benzenesulfonate). Effect of polyethylene glycol 10000) on glossiness of copper coating without cyanide. The basic bath composition and process conditions are determined as follows: copper sulfate 50 g / L, succinimide 90 g / L, triethanolamine 40 g / L, citric acid 20 g / L, potassium hydroxide 60 g / L, pH 9.09.5, temperature 2030 掳C, current density 2 AAD / m 2, time. 5 min. and then through the orthogonal test, The optimum compound additive formula was as follows: 1: 2-mercaptobenzimidazole 1.5 mg / L, polyethylene glycol 10000 40 mg / L. the stability of the plating solution was improved, and the current efficiency, dispersion and covering ability were 82.4% and 100.0%, respectively. The orientation along the crystal plane is more obvious.
【作者单位】: 贵州大学化学与化工学院;贵州省水利投资(集团)公司;
【基金】:2016年贵州大学研究生创新基金(研理工2016010) 2015贵州省科技计划(黔科合GZ字[2015]3032)
【分类号】:TQ153.14

【参考文献】

相关期刊论文 前6条

1 徐金来;赵国鹏;胡耀红;;钢铁表面四种预镀工艺比较[J];电镀与涂饰;2010年03期

2 杨防祖;吴伟刚;林志萍;黄令;周绍民;;钢铁基体上柠檬酸盐碱性无氰镀铜[J];电镀与涂饰;2009年06期

3 梁国柱;;钢铁酸性直接镀铜工艺[J];材料保护;2008年12期

4 周卫铭,郭忠诚,龙晋明,曹梅;无氰碱性镀铜[J];电镀与涂饰;2004年06期

5 蔡梅英;倪步高;;缩二脲无氰碱性镀铜[J];材料保护;1993年01期

6 魏其茂;;丁二酰亚胺体系光亮镀银[J];电镀与精饰;1983年04期

【共引文献】

相关期刊论文 前10条

1 孔令海;刘定富;刘霄;;丁二酰亚胺体系无氰镀铜添加剂的研究[J];电镀与环保;2017年04期

2 林志敏;余泽峰;蒋义锋;黄先杰;谢英伟;杨玉祥;杨防祖;;产业化锌合金无氰镀铜工艺特征[J];电镀与涂饰;2016年23期

3 魏军胜;贾志刚;李宁;;闪镀镍在冷轧板表面处理中的应用[J];电镀与涂饰;2016年17期

4 毕晨;刘定富;曾庆雨;荣恒;;六种辅助配位剂对丁二酰亚胺体系无氰镀铜的影响[J];电镀与涂饰;2016年16期

5 秦足足;李建三;徐金来;;HEDP溶液体系无氰镀铜配方优化[J];电镀与涂饰;2016年07期

6 宋文超;李玉梁;左正忠;熊剑锋;胡哲;;一种无氰碱性光亮镀铜新工艺[J];材料保护;2016年03期

7 毕晨;刘定富;曾庆雨;;丁二酰亚胺体系无氰镀银工艺的优化[J];电镀与涂饰;2016年03期

8 肖玉国;尹建军;王会丽;苏凯民;;锌合金电子元器件多层电镀及镀层性能研究[J];材料科学与工艺;2015年06期

9 李向宇;刘宪;杨加明;梁镇海;;水溶液与离子液体中钛基电镀铜过程研究[J];应用化工;2015年09期

10 安成强;安恺;郝建军;魏娟;;闪镀镍对冷轧板表面耐蚀性的影响[J];表面技术;2015年08期

【二级参考文献】

相关期刊论文 前10条

1 邹忠利;李宁;王殿龙;黎德育;;钢铁基体无氰碱性镀铜的研究进展[J];电镀与环保;2008年02期

2 徐金来;邓正平;赵国鹏;胡耀红;张晓明;;无氰碱性镀铜工艺实践[J];电镀与涂饰;2008年03期

3 冯绍彬;胡芳红;;“电位活化”现象与无氰直接镀铜[J];电镀与涂饰;2008年03期

4 蔡爱清;王建华;曹相锋;;碱性无氰镀铜工艺研究[J];电镀与精饰;2007年03期

5 邵晨;冯辉;卫应亮;邵同镜;;膦酸镀铜新工艺的研究[J];内蒙古石油化工;2007年02期

6 袁诗璞;;路漫漫兮,无氰碱铜[J];电镀与涂饰;2006年08期

7 王瑞祥;钢铁基体上碱性无氰镀铜[J];电镀与涂饰;2005年07期

8 陈高,杨志强,刘烈炜,彭庆军;新型柠檬酸盐镀铜工艺[J];材料保护;2005年06期

9 温青,陈建培;无氰碱性镀铜工艺的研究进展[J];材料保护;2005年04期

10 奚兵;新型碱性无氰镀铜工艺[J];腐蚀与防护;2005年01期

【相似文献】

相关期刊论文 前1条

1 魏其茂;;丁二酰亚胺体系光亮镀银[J];电镀与精饰;1983年04期



本文编号:1643633

资料下载
论文发表

本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/huagong/1643633.html


Copyright(c)文论论文网All Rights Reserved | 网站地图 |

版权申明:资料由用户4f576***提供,本站仅收录摘要或目录,作者需要删除请E-mail邮箱bigeng88@qq.com