衬底对微米金刚石薄膜制备及特性的影响

发布时间：2018-04-05 08:16

  本文选题：微米金刚石　切入点：薄膜制备　出处：《电子器件》2017年01期

【摘要】：通过改变处理衬底表面的方法,制备出不同的微米金刚石薄膜。具体的方法是利用磁控溅射在陶瓷衬底上面镀上一层厚金属钛,对金属钛层进行不同的表面处理后,放在微波等离子体化学气相沉积腔中制备微米金刚石薄膜。对不同的薄膜用二极管型结构测试了它们的场致发射电子的性能,良好的表面处理能达到在电场2.1 V/μm下,9.2 m A/cm~2优秀的发射效果。并对发射机理和场发射特性进行了深入的研究。
[Abstract]:Different micron diamond films were prepared by changing the substrate surface treatment.The specific method is to prepare micron diamond films on ceramic substrates by magnetron sputtering, after different surface treatments are carried out, and then deposited in microwave plasma chemical vapor deposition cavities.The properties of the field emission electrons of different thin films were tested with diode structure. The excellent surface treatment can reach the excellent emission effect of 9.2m A/cm~2 at the electric field of 2.1V / 渭 m.The emission mechanism and field emission characteristics are also studied.
【作者单位】： 郑州师范学院物理系;郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室;
【基金】：教育部科学技术重点项目(205091) 河南省科学技术成果项目(教高豫科鉴委字[2015]第569号) 河南省高等学校重点科研项目(16A140039)
【分类号】：TQ163;TN873

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本文编号：1713923